[发明专利]掩模和包括该掩模的沉积装置

权利要求书

1.一种掩模，包括：

主体单元，沉积开口被限定穿过所述主体单元；和

突出单元，图案开口被限定穿过所述突出单元，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出，

其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。

2.根据权利要求1所述的掩模，其中所述突出单元包括：

从所述主体单元的所述拐角突出的第一部分；

与所述第一部分间隔开并从所述主体单元的所述拐角突出的第二部分；以及

设置在所述第一部分与所述第二部分之间的第三部分。

3.根据权利要求2所述的掩模，其中所述拐角具有曲率，并且所述第三部分从所述沉积开口朝向所述主体单元的所述拐角凹入。

4.根据权利要求1所述的掩模，其中所述图案开口被提供多个，

其中多个图案开口沿从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口的方向布置。

5.根据权利要求4所述的掩模，其中所述多个图案开口由所述突出单元围绕。

6.根据权利要求4所述的掩模，其中所述多个图案开口具有彼此不同的面积。

7.根据权利要求1所述的掩模，其中所述突出单元包括多个分隔壁，

其中所述多个分隔壁暴露所述主体单元的所述拐角的一部分，被彼此分离布置，并且从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口延伸。

8.根据权利要求7所述的掩模，其中所述突出单元被提供多个，

其中，在从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口的方向上，所述多个分隔壁中的至少一个在所述方向的垂直方向上的宽度变化。

9.根据权利要求1所述的掩模，其中所述主体单元的厚度为100微米至300微米。

10.根据权利要求1所述的掩模，其中所述突出单元的厚度为10微米至50微米。

11.一种沉积装置，包括：

腔室；

布置在所述腔室内的掩模；

基底基板，被布置在所述掩模上，并包括与所述基底基板的沉积区域的拐角部分相邻的第一区域和围绕所述第一区域的至少一部分的第二区域；以及

沉积源，该沉积源将沉积材料提供至所述基底基板，

其中所述掩模包括：

主体单元，暴露所述第二区域的沉积开口被限定在所述主体单元中；和

突出单元，暴露所述第一区域的一部分的图案开口被限定在所述突出单元中，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出并覆盖所述第一区域的其余部分，

其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。

12.根据权利要求11所述的沉积装置，其中所述突出单元包括：

从所述主体单元的所述拐角突出的第一部分；

与所述第一部分间隔开并从所述主体单元的所述拐角突出的第二部分；以及

设置在所述第一部分与所述第二部分之间的第三部分。

13.根据权利要求12所述的沉积装置，其中所述主体单元的所述拐角具有曲率，并且所述第三部分从所述沉积开口朝向所述主体单元的所述拐角凹入。

14.根据权利要求11所述的沉积装置，其中所述图案开口被提供多个，

其中多个图案开口沿从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口的方向布置。

15.根据权利要求14所述的沉积装置，其中所述多个图案开口由所述突出单元围绕。

16.根据权利要求14所述的沉积装置，其中所述多个图案开口具有彼此不同的面积。