[发明专利]一种超高导热石墨烯膜的制备方法

权利要求书

1.一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)以氧化石墨烯浆料为前驱体制备氧化石墨烯薄膜；

2)在真空或者惰性气氛中对氧化石墨烯薄膜热还原，脱除非碳原子；

3)对还原氧化石墨烯膜进行化学气相沉积处理，通入有机碳源气体高温裂解，将气态的碳原子沉积到氧化石墨烯膜的表面；

4)将得到的氧化石墨烯膜在以真空或者惰性气氛中高温石墨化。

2.根据权利要求1所述的一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的氧化石墨烯浆料为质量浓度为1～6wt.％的氧化石墨烯水浆料，其中氧化石墨烯片径为2～100微米。

3.根据权利要求1所述的一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的氧化石墨烯薄膜热还原为以1℃/min的速度升温至700℃。

4.根据权利要求1所述的一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的有机碳源选自甲烷、乙炔或苯中之一种。

5.根据权利要求1所述的一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的高温裂解为加热至900～1400℃，生成气相状态碳原子的过程。

6.根据权利要求1所述的一种超高导热石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的高温石墨化为将还原氧化石墨烯在保护气氛下以5℃/min的速度升温至2200～3100℃，形成致密的石墨烯膜。