[发明专利]彩膜基板、显示面板及彩膜基板制作方法

说明书

本申请公开了一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板制作方法。本申请的彩膜基板在色阻层中对不同颜色的色阻单元进行差异化设计，并采用转印的方法设置光转换层。具体的，在色阻层中设置了第一色阻单元和第二色阻单元。第一色阻单元的厚度小于第二色阻单元的厚度，使得转印制程中仅有第二色阻单元与光转换层接触，将光转换层选择性的转印至第二色阻单元上。这样的彩膜基板及制作方法省去了对光转换层的光刻工艺，实现选择性的光转换层转印。能够避免图案化处理时对光转换层材料产生影响，增强了光转换效率，提升了发光效果，进而增强了显示面板的信赖性。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板制作方法。

背景技术

量子点色片(Quantum dot color filter,QDCF)具有高色域、宽视角的特点，搭配迷你发光二极管(Mini light-emitting diode,Mini LED)、微型发光二极管(Microlight-emitting diode,Micro LED)等背光技术能够表现出优异的画质，是未来显示技术中最具竞争力的产品。

在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的发明人发现，目前应用QDCF的显示技术尚无量产产品，主要原因之一是QDCF的制作工艺。制作QDCF时，通常是将光阻(Photoresist,PR)与量子点材料混合，然后采用光刻技术制成QDCF。在光刻技术中曝光对光阻图案化的同时，对量子点进行光引发。此时量子点中的配体易与PR发生化学反应，从而使量子点(Quantum dot,QD)材料光线转换效率下降。

发明内容

本申请提供一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板制作方法，该彩膜基板可以提高光转换层的光线转换效率。

本申请提供一种彩膜基板，包括：

基板；

色阻层，所述色阻层设置在所述基板上，所述色阻层包括交替设置的多个第一色阻单元和多个第二色阻单元，所述第一色阻单元的厚度小于所述第二色阻单元的厚度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述彩膜基板还包括保护层以及增强层，所述保护层设置在所述光转换层远离所述基板的一侧，所述增强层设置在所述保护层远离所述基板的一侧，所述增强层对应所述光转换层设置。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述保护层的厚度介于1nm至50nm之间，所述增强层的厚度介于1nm至50nm之间。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述增强层为纳米颗粒，所述纳米颗粒的粒径介于20nm至50nm之间。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一色阻单元包括蓝色子色阻层，所述第二色阻单元包括红色子色阻层和绿色子色阻层，相邻的所述蓝色子色阻层与所述红色子色阻层相互接触且部分重叠，相邻的所述蓝色子色阻层与所述绿色子色阻层相互接触且部分重叠，相邻的所述红色子色阻层与所述绿色子色阻层相互接触且部分重叠。

可选的，在本申请的一些实施例中，相邻的所述蓝色子色阻层与所述红色子色阻层之间的接触面为斜面，相邻的所述蓝色子色阻层与所述绿色子色阻层之间的接触面为斜面，相邻的所述红色子色阻层与所述绿色子色阻层之间的接触面为斜面，所述斜面与所述基板所在的平面的夹角介于45°至80°之间。

相应的，本申请还提供一种显示面板，包括：

彩膜基板，所述彩膜基板为以上所述的彩膜基板；

阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置。

相应的，本申请还提供一种彩膜基板制作方法，包括：

提供一光转换基板，所述光转换基板包括层叠设置的衬底和光转换层；