[发明专利]彩膜基板、显示面板及彩膜基板制作方法有效
申请号: | 202110763257.2 | 申请日: | 2021-07-06 |
公开(公告)号: | CN113568079B | 公开(公告)日: | 2023-10-17 |
发明(设计)人: | 周淼 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B1/14;H01L33/50 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 张晓薇 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 显示 面板 制作方法 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:
基板;
色阻层,所述色阻层设置在所述基板上,所述色阻层包括交替设置的多个第一色阻单元和多个第二色阻单元,所述第一色阻单元的厚度小于所述第二色阻单元的厚度;
光转换层,所述光转换层设置在所述色阻层远离所述基板的一侧,所述光转换层对应所述第二色阻单元设置。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括保护层以及增强层,所述保护层设置在所述光转换层远离所述基板的一侧,所述增强层设置在所述保护层远离所述基板的一侧,所述增强层对应所述光转换层设置。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述保护层的厚度介于1nm至50nm之间,所述增强层的厚度介于1nm至50nm之间。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述增强层为纳米颗粒,所述纳米颗粒的粒径介于20nm至50nm之间。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一色阻单元包括蓝色子色阻层,所述第二色阻单元包括红色子色阻层和绿色子色阻层,相邻的所述蓝色子色阻层与所述红色子色阻层相互接触且部分重叠,相邻的所述蓝色子色阻层与所述绿色子色阻层相互接触且部分重叠,相邻的所述红色子色阻层与所述绿色子色阻层相互接触且部分重叠。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,相邻的所述蓝色子色阻层与所述红色子色阻层之间的接触面为斜面,相邻的所述蓝色子色阻层与所述绿色子色阻层之间的接触面为斜面,相邻的所述红色子色阻层与所述绿色子色阻层之间的接触面为斜面,所述斜面与所述基板所在的平面的夹角介于45°至80°之间。
7.一种显示面板,其特征在于,包括:
彩膜基板,所述彩膜基板为权利要求1-6任意一项所述的彩膜基板;
阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置。
8.一种彩膜基板制作方法,其特征在于,包括:
提供一光转换基板,所述光转换基板包括层叠设置的衬底和光转换层;
提供一基板,并在所述基板上形成色阻层,所述色阻层包括多个第一色阻单元和多个第二色阻单元,所述第一色阻单元的厚度小于所述第二色阻单元的厚度;
转印所述光转换层至所述第二色阻单元远离所述基板的一侧。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板制作方法,其特征在于,在转印所述光转换层至所述第二色阻单元远离所述基板的一侧之后,还包括:
在所述光转换层远离所述基板的一侧形成保护层;
在所述保护层远离所述基板的一侧形成增强层,所述增强层对应所述第二色阻单元设置。
10.根据权利要求8所述的彩膜基板制作方法,其特征在于,转印所述光转换层至所述第二色阻单元远离所述基板的一侧,包括以下步骤:
令所述第二色阻单元与所述光转换层接触;
加热所述第二色阻单元与所述光转换层至设定温度,并持续设定时长;所述设定温度介于50℃至100℃之间,所述设定时长介于10分钟至60分钟之间;
剥离所述衬底以及对应所述第一色阻单元的所述光转换层。
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