[发明专利]显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110762149.3 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN113571554A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 李远航 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:

衬底基板;

薄膜晶体管阵列层,所述薄膜晶体管阵列层设置在所述衬底基板上;

阳极,所述阳极设置在所述薄膜晶体管阵列层上;

像素定义层,所述像素定义层覆盖所述薄膜晶体管阵列层且在对应所述阳极的位置上设置有开口;

发光器件层,所述发光器件层设置在所述开口内;

薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述像素定义层及所述发光器件层;及

色阻层,所述色阻层设置在所述薄膜封装层内且位于所述开口内;

其中,所述像素定义层义不透光。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述薄膜封装层包括:

第一无机层,所述第一无机层覆盖在所述像素定义层及所述发光器件层上;

有机平坦层,所述有机平坦层覆盖在所述第一无机层与所述色阻层上;及

第二无机层,所述第二无机层覆盖在所述有机平坦层上;

其中,所述色阻层设置在所述第一无机层上且位于所述开口内。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的侧壁义为梯状且所述像素定义层义黑色。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件层在所述衬底基板上的正投影位于所述色阻层在所述衬底基板上的正投影范围内。

5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:

触控电极层,所述触控电极层设置在所述第二无机层上且包括多个触控电极;

遮光层,所述遮光层包括多个遮光图案,所述遮光图案一一对应覆盖于所述触控电极上;及

有机保护层,所述有机保护层覆盖于所述第二无机层与所述遮光层上。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述开口在水平方向上的形状义为形、椭为形或弧状。

7.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的侧壁的倾斜角度小于30度,且所述像素定义层的光密度范围在3.5至4.5之间。

8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括下列步骤:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上依序形成薄膜晶体管阵列层、阳极及像素定义层,并图案化所述像素定义层以在对应所述阳极的位置上形成开口,其中所述像素定义层义不透光;

在所述开口内形成发光器件层;

将第一无机层覆盖在所述像素定义层及所述发光器件层上;

以喷墨打印的方式在所述第一无机层上且对应所述开口内形成色阻层;

将有机平坦层覆盖在所述第一无机层与所述色阻层上;及

将第二无机层覆盖在所述有机平坦层上。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述图案化所述像素定义层以在对应所述阳极的位置上形成开口的步骤中,所述像素定义层是使用半色调光罩进行图案化以形成具有为梯状的侧壁。

10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述开口在水平方向上的形状义为形、椭为形或弧状。

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