[发明专利]显示面板及其制备方法在审
| 申请号: | 202110762149.3 | 申请日: | 2021-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN113571554A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
| 发明(设计)人: | 李远航 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 张晓薇 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
衬底基板;
薄膜晶体管阵列层,所述薄膜晶体管阵列层设置在所述衬底基板上;
阳极,所述阳极设置在所述薄膜晶体管阵列层上;
像素定义层,所述像素定义层覆盖所述薄膜晶体管阵列层且在对应所述阳极的位置上设置有开口;
发光器件层,所述发光器件层设置在所述开口内;
薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述像素定义层及所述发光器件层;及
色阻层,所述色阻层设置在所述薄膜封装层内且位于所述开口内;
其中,所述像素定义层义不透光。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述薄膜封装层包括:
第一无机层,所述第一无机层覆盖在所述像素定义层及所述发光器件层上;
有机平坦层,所述有机平坦层覆盖在所述第一无机层与所述色阻层上;及
第二无机层,所述第二无机层覆盖在所述有机平坦层上;
其中,所述色阻层设置在所述第一无机层上且位于所述开口内。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的侧壁义为梯状且所述像素定义层义黑色。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件层在所述衬底基板上的正投影位于所述色阻层在所述衬底基板上的正投影范围内。
5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
触控电极层,所述触控电极层设置在所述第二无机层上且包括多个触控电极;
遮光层,所述遮光层包括多个遮光图案,所述遮光图案一一对应覆盖于所述触控电极上;及
有机保护层,所述有机保护层覆盖于所述第二无机层与所述遮光层上。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述开口在水平方向上的形状义为形、椭为形或弧状。
7.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的侧壁的倾斜角度小于30度,且所述像素定义层的光密度范围在3.5至4.5之间。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括下列步骤:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板上依序形成薄膜晶体管阵列层、阳极及像素定义层,并图案化所述像素定义层以在对应所述阳极的位置上形成开口,其中所述像素定义层义不透光;
在所述开口内形成发光器件层;
将第一无机层覆盖在所述像素定义层及所述发光器件层上;
以喷墨打印的方式在所述第一无机层上且对应所述开口内形成色阻层;
将有机平坦层覆盖在所述第一无机层与所述色阻层上;及
将第二无机层覆盖在所述有机平坦层上。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述图案化所述像素定义层以在对应所述阳极的位置上形成开口的步骤中,所述像素定义层是使用半色调光罩进行图案化以形成具有为梯状的侧壁。
10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述开口在水平方向上的形状义为形、椭为形或弧状。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





