[发明专利]一种光斑校正方法、系统、集成电路检测设备和存储介质在审
| 申请号: | 202110760279.3 | 申请日: | 2021-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN113379645A | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
| 发明(设计)人: | 陈鲁;方一;辛自强;黄有为;张嵩 | 申请(专利权)人: | 深圳中科飞测科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T7/00 |
| 代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 刘兆;郭燕 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光斑 校正 方法 系统 集成电路 检测 设备 存储 介质 | ||
1.一种光斑校正方法,其特征在于,包括:
获取检测光束通过光学元件后的光斑图像;
根据所述光斑图像获取光斑形变的量化指标,所述光斑形变包括旋转、均匀性、平移和离焦中的至少一个;
根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内。
2.如权利要求1所述的光斑校正方法,其特征在于,
所述光斑形变包括旋转;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度包括:根据所述量化指标,调节所述光学元件的旋转自由度;和/或,
所述光斑形变包括平移;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度包括:根据所述量化指标,调节所述光学元件的平行自由度;和/或,
所述光斑形变包括均匀性,所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度包括:根据所述量化指标,调节所述光学元件的偏摆自由度;和/或,
所述光斑形变包括离焦,所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度包括:根据所述量化指标,调节所述光学元件沿光轴的位置。
3.如权利要求2所述的光斑校正方法,其特征在于,所述光斑形变包括旋转、均匀性、平移和离焦中的至少两个;
所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度中,按照旋转、均匀性、平移和离焦的顺序,依次根据所述光斑形变相应的所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度。
4.如权利要求1至3任意一项所述的光斑校正方法,其特征在于,
所述光斑形变包括旋转,所述量化指标为光斑的中心线与预设方向的夹角;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内包括:根据所述夹角,调节所述光学元件的旋转自由度,直至所述夹角基本上为0°;和/或,
所述光斑形变包括平移,所述量化指标为所述光斑中心或光斑任一指定点的位置与预设坐标的距离;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内包括:根据所述距离,调节所述光学元件的平移自由度,直至所述距离小于或等于五个像素;
所述光斑形变包括均匀性,所述量化指标为所述光斑的均匀性;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内包括:根据所述均匀性,调节所述光学元件的偏摆自由度,直至所述均匀性大于或等于80%;和/或,
所述光斑形变包括离焦,所述量化指标为光斑的宽度;所述根据所述量化指标,调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内包括:根据所述宽度,调节所述光学元件沿光轴的位置,直至所述光斑的宽度小于或等于50微米。
5.一种光斑校正系统,其特征在于,包括:
光学元件,检测光束通过所述光学元件后形成光斑图像;
光强获取模块,用于获取所述光斑图像上多列检测点的光强表征量,其中,同一列的各个检测点沿光斑的宽度方向排布,各列检测点沿所述光斑的长度方向排布;
调节模块,用于调节所述光学元件的空间自由度;
以及处理模块,用于根据所述光强表征量获取光斑形变的量化指标,所述光斑形变包括旋转、均匀性、平移和离焦中的至少一个;
所述处理模块还用于根据所述量化指标控制所述调节模块调节所述光学元件的空间自由度,直至所述量化指标在预设阈值范围内。
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