[发明专利]一种半导体用十级擦拭布净化清洗工艺

说明书

本发明公开了一种半导体用十级擦拭布净化清洗工艺，具体涉及十级擦拭布净化清洗工艺技术领域，包括清洗箱，所述清洗箱一侧设置有两组调节清洗机构，两组所述调节清洗机构之间设置有刷动机构；所述调节清洗机构包括设置在所述清洗箱一侧的支撑块，本发明通过设置刷动机构、调节清洗机构，实现上刷板和下刷板的来回刷动，这样可以提高刷动效率速度更快，去除杂质效果更好，操作简单，易于使用，有效降低了清洁成本，实用性更好，更加贴合十级擦拭布的上下两侧面，增加刷动摩擦力，提高十级擦拭布在清洗过程中绷紧程度，适用于不同厚度的十级擦拭布的清洗操作，提高了清洗适用性。

技术领域

本发明涉及十级擦拭布净化清洗工艺技术领域，更具体地说，本发明涉及一种半导体用十级擦拭布净化清洗工艺。

背景技术

半导体指常温下导电性能介于导与绝缘体之间的材料，半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，而半导体在进行生产过程中需要用到十级擦拭布进行擦拭操作，并且十级擦拭布在生产制造过程中需要用到净化清洗工艺去除其表面杂质以及灰尘。

现有技术中，在对十级擦拭布进行清洗工艺过程中，需要过水进行辊轮清洗处理操作，在这样的处理情况下清洗的杂质和灰尘并不能快速进行处理，且对于不同厚度的十几擦拭布无法进行调节，且清洗过程中的松紧度调节比较麻烦，降低了清洗效果，提高清洗成本，实用性差。

发明内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本发明的实施例提供一种半导体用十级擦拭布净化清洗工艺，通过设置刷动机构、调节清洗机构，实现上刷板和下刷板的来回刷动，这样可以提高刷动效率速度更快，去除杂质效果更好，操作简单，易于使用，有效降低了清洁成本，实用性更好，且提高十级擦拭布在清洗过程中绷紧程度，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体用十级擦拭布净化清洗装置，包括清洗箱，其特征在于：所述清洗箱一侧设置有两组调节清洗机构，两组所述调节清洗机构之间设置有刷动机构；

所述调节清洗机构包括设置在所述清洗箱一侧的支撑块，所述支撑块顶端连接有调节气缸，所述调节气缸推动端连接有推动杆，所述推动杆顶端连接有推动块，所述推动块一侧连接有调节凹框，所述调节凹框内部设置有底部滚动限位轴杆，所述底部滚动限位轴杆上方设置有顶部滚动限位轴杆，所述顶部滚动限位轴杆一端外部套设有下压轴环块，所述下压轴环块顶端安装有下压气缸；

所述刷动机构包括设置在所述清洗箱另一侧的支撑凹框，所述支撑凹框内部设置有传动丝杆，所述传动丝杆一端连接有旋转杆，所述旋转杆一端安装有伺服电机，所述传动丝杆外部套设有螺纹环，所述螺纹环顶端连接有移动支板，所述移动支板顶端连接有横向支撑板，所述横向支撑板一侧连接有挤压气缸，所述挤压气缸推动端连接有活动杆，所述活动杆底端连接有下压凹框，所述下压凹框底端连接有上刷板，所述上刷板底部设置有下刷板，所述下刷板一侧连接有联动块，所述联动块顶端连接有拉伸杆。

在一个优选地实施方式中，所述清洗箱底端连接有下流电动阀管，所述下流电动阀管底端安装有过滤箱，所述过滤箱内部设置有过滤网，所述过滤网底端安装有滤芯，所述过滤箱底端嵌入设置有回流管，所述回流管一端安装有回流泵机，所述回流泵机输出端连接有导流管，所述导流管一端连接有横向喷射管，所述下流电动阀管一侧连接有循环管，所述循环管底端安装有电动控制阀，所述电动控制阀底端安装有接入管。

在一个优选地实施方式中，所述清洗箱一侧安装有净化箱，所述净化箱内部设置有第一净化辊轮，所述第一净化辊轮一侧设置有第二净化辊轮，所述拉伸杆顶端设置有拉伸气缸，所述联动块一侧设置有第一滚轮，所述下刷板另一设置有第二滚轮。

在一个优选地实施方式中，所述净化箱底端设置有排放阀管，所述排放阀管与所述净化箱相连通。

在一个优选地实施方式中，所述伺服电机一侧连接有稳固支杆，所述稳固支杆与所述伺服电机之间固定连接。