[发明专利]一种芯片晶圆生产用清洗装置在审
| 申请号: | 202110758097.2 | 申请日: | 2021-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN113539936A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
| 发明(设计)人: | 卢景璇 | 申请(专利权)人: | 安徽海之量储存设备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 周卫 |
| 地址: | 243000 安徽省马鞍山市郑*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 芯片 生产 清洗 装置 | ||
本发明公开了一种芯片晶圆生产用清洗装置,属于芯片加工技术领域,包括操作台,所述操作台顶部表面对称开设有第一滑槽,所述第一滑槽内壁上对称开设有第二滑槽,两侧所述第一滑槽内部皆活动设置有若干根转轴,所述转轴中部套接有轴套,所述轴套异于第一滑槽的一侧固定连接有固定杆,两根固定杆异于轴套的一端面上固定有承接板,所述承接板顶部表面固定连接有若干根第一电动伸缩杆,四根所述第一电动伸缩杆的伸缩端端面皆固定连接有滑动圈,所述滑动圈内侧壁对称固定有第一顶紧弹簧;过设置推块,第三电动伸缩杆的伸缩端推动推块对清洗液进行流速的控制,从而控制清洗的晶圆的水体强度,加快了对晶圆清洗工序的效率。
技术领域
本发明属于芯片加工技术领域,涉及一种芯片晶圆生产用清洗装置。
背景技术
随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段,集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高,为了保证芯片材料表面的洁净度,集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工艺。
传统的清洗方式是利用去离子水冲洗芯片,这种方式中,去离子水以很高的流量冲击芯片,将芯片上的杂质和污染物冲走,从而达到清洗效果。但是这种清洗方法对芯片的冲击力过大,容易造成元件图案的损坏,并且这种清洗方式的去离子水的利用率低,导致资源浪费。
市面上芯片晶圆清洗还应用人工配比药液,然后利用药液浸泡和普通吹干、外加烘烤的方式对芯片晶圆进行清洗处理,虽然过程简单,但存在着众多问题,首先,药液配比很难数据化对产品质量有着很大的质量风险;其次,在浸泡过程中很难达到芯片晶圆清洗要求,且药液残留以及对产品的损害比较严重;再次,药液清洗槽存在对芯片晶圆二次污染的风险;再次清洗完的芯片晶圆无法保证水分和药液的吹干,会导致残留比较严重;最后,传统吹干后,晶片表面留有水渍,导致传统工艺的清洗效率及清洗效果较差。
由于芯片表面凸点数量多、尺寸小,且由质地柔软的金属制成,因此在清洗过程中极易被镊子刮擦而受损;光电器件芯片通常是由一些比较脆的材料制成,极易因夹持力过大而受到损伤,导致芯片报废。
发明内容
本发明的目的在于提供一种芯片晶圆生产用清洗装置,通过设置支撑装置,在对不同种类晶圆的重量不一的情况下进行清洗工序时,保证了晶圆在清洗工序过程中稳固的效果;通过设置滑动圈,在对半径不同的晶圆进行清洗工序时,滑动圈能对晶圆进行固定,避免了晶圆在清洗工序过程中发生抖动的情况,从而清理效果差;通过设置推块,控制清洗的晶圆的水体强度,加快了对晶圆清洗工序的效率。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种芯片晶圆生产用清洗装置,包括操作台,所述操作台顶部表面对称开设有第一滑槽,所述第一滑槽内壁上对称开设有第二滑槽,两侧所述第一滑槽内部皆活动设置有若干根转轴,所述转轴中部套接有轴套,所述轴套异于第一滑槽的一侧固定连接有固定杆,两根固定杆异于轴套的一端面上固定有承接板,所述承接板顶部表面固定连接有若干根第一电动伸缩杆,四根所述第一电动伸缩杆的伸缩端端面皆固定连接有滑动圈,所述滑动圈内侧壁对称固定有第一顶紧弹簧,所述第一顶紧弹簧的另一端固定连接有夹持板,所述夹持板为圆弧形结构,且夹持板的下端延伸至滑动圈下方,所述承接板顶部表面中部设置有支撑装置。
作为本发明的一种芯片晶圆生产用清洗装置优选技术方案,所述支撑装置包括固定柱,所述固定柱内部为空腔结构,且所述固定柱内部活动设置有滑杆,所述滑杆的一端固定连接有第一滑块,第一滑块与固定柱内壁滑动连接,所述滑杆的另一端贯穿固定柱顶部表面并固定连接有顶块,所述顶块异于滑杆的一端面设置若干个摩擦点,所述固定柱内部还固定设有第二顶紧弹簧。
作为本发明的一种芯片晶圆生产用清洗装置优选技术方案,所述转轴的两端套接有电动滑轮,且电动滑轮与第二滑槽滑动连接。
作为本发明的一种芯片晶圆生产用清洗装置优选技术方案,所述操作台上方设置有顶架,且顶架两端的轴向方向上与操作台两侧壁固定连接,所述顶架朝向操作台顶部表面的一侧端面内开设有第三滑槽。
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