[发明专利]一种芯片晶圆生产用清洗装置在审
| 申请号: | 202110758097.2 | 申请日: | 2021-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN113539936A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
| 发明(设计)人: | 卢景璇 | 申请(专利权)人: | 安徽海之量储存设备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 周卫 |
| 地址: | 243000 安徽省马鞍山市郑*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 芯片 生产 清洗 装置 | ||
1.一种芯片晶圆生产用清洗装置,包括操作台(1),其特征在于:所述操作台(1)顶部表面对称开设有第一滑槽(2),所述第一滑槽(2)内壁上对称开设有第二滑槽(3),两侧所述第一滑槽(2)内部皆活动设置有若干根转轴,所述转轴中部套接有轴套,所述轴套异于第一滑槽(2)的一侧固定连接有固定杆(4),两根固定杆(4)异于轴套的一端面上固定有承接板(5),所述承接板(5)顶部表面固定连接有若干根第一电动伸缩杆(6),四根所述第一电动伸缩杆(6)的伸缩端端面皆固定连接有滑动圈(7),所述滑动圈(7)内侧壁对称固定有第一顶紧弹簧(8),所述第一顶紧弹簧(8)的另一端固定连接有夹持板(9),所述夹持板(9)为圆弧形结构,且夹持板(9)的下端延伸至滑动圈(7)下方,所述承接板(5)顶部表面中部设置有支撑装置(10)。
2.根据权利要求1所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述支撑装置(10)包括固定柱(11),所述固定柱(11)内部为空腔结构,且所述固定柱(11)内部活动设置有滑杆(12),所述滑杆(12)的一端固定连接有第一滑块(13),第一滑块(13)与固定柱(11)内壁滑动连接,所述滑杆(12)的另一端贯穿固定柱(11)顶部表面并固定连接有顶块(14),所述顶块(14)异于滑杆(12)的一端面设置若干个摩擦点(15),所述固定柱(11)内部还固定设有第二顶紧弹簧(16)。
3.根据权利要求1所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述转轴的两端套接有电动滑轮,且电动滑轮与第二滑槽(3)滑动连接。
4.根据权利要求1所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述操作台(1)上方设置有顶架(17),且顶架(17)两端的轴向方向上与操作台(1)两侧壁固定连接,所述顶架(17)朝向操作台(1)顶部表面的一侧端面内开设有第三滑槽(18)。
5.根据权利要求4所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述第三滑槽(18)内部活动设置有第二滑块(19),所述第二滑块(19)异于顶架(17)的一侧端面上设置有第二电动伸缩杆(20),所述第二电动伸缩杆(20)的固定端与第二滑块(19)固定连接,所述第二电动伸缩杆(20)的伸缩端通过轴承转动连接有电动转轴(21),所述电动转轴(21)的侧壁上对称固定连接有夹持架(22),且夹持架(22)呈L型结构。
6.根据权利要求5所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述夹持架(22)的相对端面上对称设置有第三电动伸缩杆(23),且第三电动伸缩杆(23)的固定端与夹持架(22)固定连接,所述第三电动伸缩杆(23)的伸缩端贯穿套接有进水板(24),且进水板(24)的顶部端面与第二电动伸缩杆(20)的伸缩端端面固定连接,两个所述进水板(24)的相对端面上皆开设有弧形存块槽(25),所述弧形存块槽(25)内设置有推块(26),且推块(26)与第三电动伸缩杆(23)的同侧的端面与第三电动伸缩杆(23)的伸缩端固定连接,所述进水板(24)的一侧开设有开口。
7.根据权利要求1所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:所述操作台(1)底部端面上安装有若干个万向轮。
8.根据权利要求1-7任一所述的一种芯片晶圆生产用清洗装置,其特征在于:该装置的具体工作方法包括以下步骤:
S1:将晶圆放入滑动圈(7)内,滑动圈(7)内的夹持板(9)对晶圆进行固定,半径不同种类的晶圆能在第一顶紧弹簧(8)的作用下,如半径较大的晶圆,晶圆侧壁对夹持板(9)进行挤压,并通过第一顶紧弹簧(8)进行抵消而且能将晶圆进行固定,如半径较小的晶圆,则第一顶紧弹簧(8)的弹力通过夹持板(9)挤压晶圆,从而对晶圆进行固定,随后启动第一电动伸缩杆(6),第一电动伸缩杆(6)的伸缩端驱动滑动圈(7)下降,使晶圆底部与顶块(14)接触,晶圆置于顶块(14)后,不同种类晶圆的重量不一的情况下,晶圆产生重力通过滑杆(12)与第一滑块(13)挤压第二顶紧弹簧(16),从而摩擦点(15)与夹持板(9)使从而使晶圆在轴向方向上保持稳定;
S2:顶架(17)内的第二滑块(19)滑动至晶圆的正上方,随后第二电动伸缩杆(20)启动,使电动转轴(21)连带夹持架(22)下降,使进水板(24)靠近晶圆,使用专门清洗晶圆的水管插入进水板(24)的开口处,随后启动第三电动伸缩杆(23),第三电动伸缩杆(23)的伸缩端推动推块(26)对清洗液进行流速的控制,从而控制清洗的晶圆的水体强度;
S3:清洗完成后,启动第一电动伸缩杆(6),第一电动伸缩杆(6)的伸缩端驱动滑动圈(7)上升,使滑动圈(7)的下端远离晶圆,清洗后的残留在滑动圈(7)内的清洗液滑落至承接板(5)上,再对晶圆表面进行烘干即可。
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