[发明专利]不包含挥发酸的蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：

磷酸40至65重量％；

硝酸2至10重量％；

非挥发性有机酸1至10重量％；

铵盐化合物；以及，

氨基酸；

所述铵盐化合物的含量以及所述氨基酸的含量之和为2至10重量％。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述非挥发性有机酸从由丁二酸、丙二酸、苹果酸、马来酸、柠檬酸、酒石酸以及它们的混合物构成的组中选择。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述铵盐化合物的含量为1至9重量％。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述铵盐化合物从由草酸铵、磷酸铵、乙酸铵以及它们的混合物构成的组中选择。

5.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述氨基酸的含量为1至9重量％。

6.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述氨基酸从由丙氨酸、甘氨酸、天冬酰胺、天冬氨酸、焦谷氨酸、马尿酸、谷氨酸以及它们的混合物构成的组中选择。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述蚀刻液组合物用于对银(Ag)单一膜或包含银(Ag)的多重膜进行蚀刻。

8.根据权利要求7所述的蚀刻液组合物，其特征在于：

所述包含银(Ag)的多重膜包含银(Ag)膜；以及从由氧化铟膜、氧化铟锡膜、氧化铟锌膜、氧化铟镓膜以及它们的合金膜构成的组中选择的氧化膜。