[发明专利]微影系统与其操作的方法

权利要求书

1.一种操作微影系统的方法，其特征在于，包括：

沉积一遮罩层在一基材上；

根据一图案将一第一辐射导向该遮罩层，该第一辐射反射自一微影系统的一组合式集光器的一集光器中央区；

根据该图案将一第二辐射导向该遮罩层，该第二辐射反射自该组合式集光器的一第一集光器周边区，其中该第一集光器周边区通过一第一缝隙与该集光器中央区垂直隔开；

移除该遮罩层的多个第一区域和多个第二区域以形成多个开口在该遮罩层中，其中该遮罩层的所述多个第一区域暴露在该第一辐射及该遮罩层的所述多个第二区域暴露在该第二辐射；以及

移除显露在所述多个开口中的一层的一材料，该层位于该遮罩层下方。

2.如权利要求1所述的操作微影系统的方法，其特征在于，进一步包括：

通过形成一气流通过该第一缝隙而使一气体流动于该集光器中央区上。

3.如权利要求2所述的操作微影系统的方法，其特征在于，形成该气流通过该第一缝隙包括使该气体通过该第一缝隙流向该集光器中央区。

4.如权利要求1所述的操作微影系统的方法，其特征在于，进一步包括：

使一气体流入该第一集光器周边区的一第一孔洞中、经过该第一集光器周边区、并且从该第一集光器周边区的一第二孔洞流出。

5.一种操作微影系统的方法，其特征在于，包括：

通过一第一辐射以图案化一第一层在一第一晶圆上，该第一辐射来自一第一组合式集光器；

用一第二集光器片段取代该第一组合式集光器的一第一集光器片段，以形成一第二组合式集光器；以及

通过一第二辐射以图案化一第二层在一第二晶圆上，该第二辐射来自该第二组合式集光器。

6.如权利要求5所述的操作微影系统的方法，其特征在于，取代该第一集光器片段是基于一临界条件而执行。

7.如权利要求5所述的操作微影系统的方法，其特征在于，进一步包括：

在图案化该第二层之前，校正该第二组合式集光器。

8.一种微影系统，其特征在于，包括：

一晶圆载台，设置以支撑一晶圆；

多个投影光学件，设置以将一图案化辐射导向该晶圆的一区域上；

一遮罩载台，设置以形成该图案化辐射并将该图案化辐射导向所述多个投影光学件；

多个照明光学件，设置以将一未图案化辐射导向该遮罩载台；以及

一光源，包括：

一液滴产生器，设置以产生一液滴；

一激光源，设置以发出至少一激光脉冲至该液滴；以及

一组合式集光器，设置以反射一辐射至所述多个照明光学件，该辐射由该液滴产生，且该组合式集光器包括：

一集光器中央区，设置以反射该辐射的一第一部分；以及

一第一集光器周边区，设置以反射该辐射的一第二部分，该第一集光器周边区与该集光器中央区重叠在一第一重叠区域中，该第一重叠区域包括一第一垂直缝隙介于该第一集光器周边区与该集光器中央区之间。

9.如权利要求8所述的微影系统，其特征在于，该第一垂直缝隙在约1毫米至约3毫米的一范围内。

10.如权利要求8所述的微影系统，其特征在于，该第一集光器周边区实质上为环形并具有一宽度，该宽度在约50毫米至约1300毫米的一范围内。