[发明专利]一种伪电阻电路及其级联电路有效

专利信息
申请号: 202110728621.1 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113381728B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 李小勇;李威 申请(专利权)人: 上海料聚微电子有限公司
主分类号: H03H11/46 分类号: H03H11/46;H03H11/54
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 郭燕;彭家恩
地址: 200000 上海市中国(上海)自*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电阻 电路 及其 级联
【权利要求书】:

1.一种伪电阻电路,其特征在于,包括:

第一端和第二端;

晶体管M1,具有第一极、第二极和控制极;所述晶体管M1的第一极、第二极分别与所述第二端、第一端连接;所述晶体管M1的第一极为漏极或集电极;

与所述晶体管M1对应的偏置电压产生电路,其两端分别与所述晶体管M1的第一极、控制极连接,用于使得所述晶体管M1的第一极和控制极之间的偏置电压增大;

晶体管M2,具有第一极、第二极和控制极;所述晶体管M2的第一极、第二极分别与所述第一端、第二端连接;所述晶体管M2的第一极为漏极或集电极;

与所述晶体管M2对应的偏置电压产生电路,其两端分别与所述晶体管M2的第一极、控制极连接,用于使得所述晶体管M2的第一极和控制极之间的偏置电压增大。

2.一种伪电阻电路,其特征在于,包括:

第一端和第二端;

晶体管M1,具有第一极、第二极和控制极;所述晶体管M1的第一极、第二极分别与所述第二端、第一端连接;所述晶体管M1的第一极为漏极或集电极;

与所述晶体管M1对应的偏置电压产生电路,其两端分别与所述晶体管M1的第一极、控制极连接,用于使得所述晶体管M1的第一极和控制极之间的偏置电压增大;

晶体管M2,具有第一极、第二极和控制极;所述晶体管M2的第一极、第二极分别与所述第一端、第二端连接,所述晶体管M2 第一极还与其控制极相连;所述晶体管M2的第一极为漏极或集电极。

3.如权利要求1或2所述的伪电阻电路,其特征在于,所述偏置电压产生电路包括:恒流源I,晶体管M和缓冲器Buffer;

所述恒流源I的正极用于连接一电压VDD,负极与所述晶体管M的第一极连接,所述晶体管M的第一极还与其控制极连接,所述晶体管M的第二极分别与所述缓冲器Buffer的输出端、负极连接;

所述恒流源I的负极、缓冲器Buffer的正极分别作为所述偏置电压产生电路的两端。

4.如权利要求3所述的伪电阻电路,其特征在于,所述偏置电压产生电路的晶体管M,与所述偏置电压产生电路所对应的晶体管,两者类型相同。

5.如权利要求1、2或4所述的伪电阻电路,其特征在于,所述晶体管M1和晶体管M2都为场效应晶体管;或者,所述晶体管M1和晶体管M2都为双极型晶体管。

6.如权利要求5所述的伪电阻电路,其特征在于,所述晶体管M1和晶体管M2都为N型场效应晶体管,或者,所述晶体管M1和晶体管M2都为P型场效应晶体管。

7.一种伪电阻电路的级联电路,其特征在于,包括多个级联的伪电阻电路,所述伪电阻电路为如权利要求1至6中任意一项所述的伪电阻电路。

8.一种伪电阻电路的级联电路,其特征在于,包括多个伪电阻电路,所述伪电阻电路包括第一端、第二端、晶体管M1和晶体管M2;其中:

每一级伪电阻电路中:晶体管M1的第二极与晶体管M2的第一极连接,并作为该级伪电阻电路的第一端;晶体管M1的第一极与晶体管M2的第二极连接,并作为该级伪电阻电路的第二端;

前后相邻的伪电阻电路中:前一级的伪电阻电路的晶体管M1的控制极与后一级的伪电阻电路的晶体管M2的控制极连接;

至少有一对前后相邻的伪电阻电路共用一个偏置电压产生电路:所述偏置电压产生电路的两端分别与前一级的伪电阻电路的第二端、后一级的伪电阻电路的晶体管M2的控制极连接,以使得前一级的伪电阻电路的晶体管M1的第一极和控制极之间的偏置电压增大,以及使得后一级的伪电阻电路的晶体管M2的第一极和控制极之间的偏置电压增大;

所述晶体管M1的第一极为漏极或集电极;所述晶体管M2的第一极为漏极或集电极。

9.如权利要求8所述的级联电路,其特征在于,任意一对前后相邻的伪电阻电路都共用有一个偏置电压产生电路。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海料聚微电子有限公司,未经上海料聚微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110728621.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top