[发明专利]半导体结构及其制造方法在审
| 申请号: | 202110727861.X | 申请日: | 2021-06-29 |
| 公开(公告)号: | CN113506783A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
| 发明(设计)人: | 吕文隆 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L23/498;H01L21/50 |
| 代理公司: | 北京植德律师事务所 11780 | 代理人: | 唐华东 |
| 地址: | 中国台湾高雄*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 结构 及其 制造 方法 | ||
本公开提供的半导体结构及其制造方法,通过介电材料热胀冷缩的变异量,进而阻挡定位并校正电子组件的位移。具体地,在黏晶(Die Bond)之前,先利用加热扩大介电材料所形成的通孔的孔径,再利用冷却缩小该通孔的孔径,进而阻挡定位并校正电子组件的位移。
技术领域
本公开涉及半导体技术领域,具体涉及半导体结构及其制造方法。
背景技术
目前,在内埋电子组件时,拾取放置机器(PickPlace Machine)的精度会导致电子组件偏移(shift)、倾斜(tilt)或旋转(rotate)等现象,这将影响到后续线路或其他制程的良率。除了改良PickPlace的机台能力外,还可以通过一些不同的制程方式,对电子组件进行校正对位。
发明内容
本公开提供了半导体结构及其制造方法。
第一方面,本公开提供了一种半导体结构,该半导体结构包括:基板,具有通孔;电子组件,设于通孔中,电子组件与通孔的局部壁面接触。
在一些可选的实施方式中,局部壁面上具有凸起物,凸起物与电子组件接触。
在一些可选的实施方式中,凸起部设有与基板的一表面过渡连接的斜面。
在一些可选的实施方式中,该半导体结构还包括:介电层,包覆基板和电子组件,介电层具有相对的第一表面和第二表面。
在一些可选的实施方式中,基板上设有基板线路层。
在一些可选的实施方式中,该半导体结构还包括:第一线路层,设于第一表面上,第一线路层分别与基板线路层和电子组件电性连接。
在一些可选的实施方式中,该半导体结构还包括:第一阻焊层,设于第一线路层上,第一阻焊层具有第一开孔,从第一开孔暴露出的第一线路层构成第一导电衬垫。
在一些可选的实施方式中,第一线路层为重布线结构。
在一些可选的实施方式中,该半导体结构还包括:第二线路层,设于第二表面上,第二线路层与第一线路层电性连接。
在一些可选的实施方式中,该半导体结构还包括:第二阻焊层,设于第二线路层上,第二阻焊层具有第二开孔,从第二开孔暴露出的第二线路层构成第二导电衬垫。
第二方面,本公开提供了一种半导体结构的制造方法,该方法包括:在基板上设置通孔;对基板进行加热,并将电子组件设于通孔内;对基板进行冷却,以使电子组件接触通孔的局部内壁。
在一些可选的实施方式中,该方法还包括:设置包覆基板和电子组件的介电层,介电层具有相对的第一表面和第二表面。
在一些可选的实施方式中,在对基板进行加热之前,该方法还包括:在基板设置基板线路层。
在一些可选的实施方式中,在对基板进行加热之前,该方法还包括:在局部内壁上设置凸出部。
在一些可选的实施方式中,该方法还包括:在第一表面依次设置第一线路层和第一阻焊层,并使第一线路层分别电性连接基板线路层与电子组件;在第一阻焊层上设置第一开孔,从第一开孔暴露出的第一线路层构成第一导电衬垫。
在一些可选的实施方式中,该方法还包括:在第二表面依次设置第二线路层和第二阻焊层;在第二阻焊层上设置第二开孔,从第二开孔暴露出的第二线路层构成第二导电衬垫。
在一些可选的实施方式中,该方法还包括:形成贯穿基板的导通孔,以电性连接第一线路层和第二线路层。
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