[发明专利]掩膜结构及掩膜组件

说明书

本发明公开了一种掩膜结构及掩膜组件，掩膜结构包括：蒸镀掩膜，包括开口区和包围开口区的遮挡区；加强连接部，在蒸镀掩膜厚度方向的一侧表面设置于遮挡区，加强连接部的磁化率大于蒸镀掩膜的磁化率。本发明能够提高蒸镀过程中掩膜组件与显示基板的贴合程度，有效避免因贴合不良导致的蒸镀质量问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜结构及掩膜组件。

背景技术

与传统液晶显示面板相比，有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板具有自发光、低能耗、响应速度快、对比度更高以及超薄可卷曲等优势，在手机、平板电脑、可穿戴产品等中应用越来越广泛。

在OLED显示面板制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。现有技术中利用掩膜板对基板进行蒸镀时，存在掩膜板与显示基板贴合不良的问题，导致蒸镀阴影较大，影响显示面板边框尺寸甚至产品性能。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜结构及掩膜组件，能够提高蒸镀过程中掩膜组件与显示基板的贴合程度。

第一方面，本发明实施例提供一种掩膜结构，用于显示基板的蒸镀，掩膜结构包括：蒸镀掩膜，包括开口区和包围开口区的遮挡区；加强连接部，在蒸镀掩膜厚度方向的一侧表面设置于遮挡区，加强连接部的磁化率大于蒸镀掩膜的磁化率。

根据本发明第一方面的前述实施方式，加强连接部的摩尔磁化率大于或等于1×10，蒸镀掩膜的摩尔磁化率大于0且小于或等于1×10^-1。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部的材料包括因瓦合金，蒸镀掩膜的材料包括不锈钢与奥氏体钢中的至少一者。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部与遮挡区在蒸镀掩膜厚度方向上的正投影的面积之比为1:50-1:1。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，遮挡区为网状，遮挡区包括相交设置的第一挡条和第二挡条；开口区呈类矩形，第一挡条和第二挡条中的一者的延伸方向平行于开口区的长度方向，另一者的延伸方向平行于开口区的宽度方向。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部至少设置于第一挡条和第二挡条中与开口区的长边平行的一者。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部包括多个连接块，多个连接块在第一挡条和第二挡条中的一者上间隔分布。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，连接块呈类矩形，连接块的长边平行于开口区的长边。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，第一挡条和第二挡条相交的位置设置有连接块。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部在蒸镀掩膜厚度方向上的正投影与遮挡区在自身厚度方向上的正投影重叠。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，蒸镀掩膜具有厚度方向上的正面和背面，蒸镀掩膜的正面用于贴合显示基板。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部层叠设置于蒸镀掩膜的背面一侧。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部包括多个连接块，蒸镀掩膜的背面设置有卡槽，连接块嵌入卡槽内。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，加强连接部包括多个连接块，蒸镀掩膜的正面设置有卡槽，连接块嵌入卡槽内且加强连接部的表面与蒸镀掩膜的正面平齐。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，蒸镀掩膜的背面设置有凹槽，凹槽的深度小于蒸镀掩膜的厚度。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，多个凹槽在蒸镀掩膜的遮挡区间隔分布。