[发明专利]掩膜结构及掩膜组件

权利要求书

1.一种掩膜结构，用于显示基板的蒸镀，其特征在于，包括：

蒸镀掩膜，包括开口区和包围所述开口区的遮挡区，所述蒸镀掩膜具有厚度方向上的正面和背面；

加强连接部，在所述蒸镀掩膜厚度方向的一侧设置于所述遮挡区，所述加强连接部的磁化率大于所述蒸镀掩膜的磁化率，所述加强连接部在所述蒸镀掩膜厚度方向上的正投影与所述遮挡区在自身厚度方向上的正投影重叠，所述加强连接部凸出于所述蒸镀掩膜的所述背面；

所述加强连接部包括多个连接块，所述蒸镀掩膜的所述背面设置有卡槽，所述连接块嵌入所述卡槽内并凸出于所述蒸镀掩膜的所述背面；

所述蒸镀掩膜的所述背面设置有凹槽，多个所述凹槽在所述蒸镀掩膜的所述遮挡区间隔分布。

2.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述加强连接部的摩尔磁化率大于或等于1×10，所述蒸镀掩膜的摩尔磁化率大于0且小于或等于1×10^-1。

3.根据权利要求2所述的掩膜结构，其特征在于，所述加强连接部的材料包括因瓦合金，所述蒸镀掩膜的材料包括不锈钢与奥氏体钢中的至少一者。

4.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述加强连接部与所述遮挡区在所述蒸镀掩膜厚度方向上的正投影的面积之比为1:50-1:1。

5.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述遮挡区为网状，所述遮挡区包括相交设置的第一挡条和第二挡条；

所述开口区呈类矩形，所述第一挡条和所述第二挡条中的一者的延伸方向平行于所述开口区的长度方向，另一者的延伸方向平行于所述开口区的宽度方向。

6.根据权利要求5所述的掩膜结构，其特征在于，所述加强连接部至少设置于所述第一挡条和所述第二挡条中与所述开口区的长边平行的所述一者。

7.根据权利要求5所述的掩膜结构，其特征在于，多个所述连接块在所述第一挡条和所述第二挡条中的所述一者上间隔分布。

8.根据权利要求7所述的掩膜结构，其特征在于，所述连接块呈类矩形，所述连接块的长边平行于所述开口区的长边。

9.根据权利要求7所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一挡条和所述第二挡条相交的位置设置有所述连接块。

10.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述蒸镀掩膜的所述正面用于贴合所述显示基板。

11.根据权利要求10所述的掩膜结构，其特征在于，所述加强连接部层叠设置于所述蒸镀掩膜的所述背面一侧；或

所述加强连接部包括多个所述连接块，所述蒸镀掩膜的所述正面设置有所述卡槽，所述连接块嵌入所述卡槽内且所述加强连接部的表面与所述蒸镀掩膜的所述正面平齐。

12.根据权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，所述凹槽的深度小于所述蒸镀掩膜的厚度。

13.一种掩膜组件，用于显示基板的蒸镀，其特征在于，包括：

框架，所述框架具有镂空区域；

掩膜结构，所述掩膜结构为权利要求1-12任一项所述的掩膜结构，所述掩膜结构设置于所述框架且覆盖所述镂空区域。