[发明专利]一种链式PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法

说明书

本发明涉及一种链式PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法，该检测方法包括如下步骤：采取相同镀膜工艺下不同时间点完成的镀膜硅片，烧结得半成品；分别对半成品进行PL和隐性开路电压测试，或PL和饱和电流密度测试，或PL和隐性开路电压、饱和电流密度测试；根据测试结果评估不同时间点所述链式PECVD镀膜工艺的稳定性；其中，不同时间点的镀膜硅片前端各工序工艺保持一致；不同时间点中至少一个时间点选自整个镀膜工艺周期的0‑3/5时间段内；各半成品进行PL、隐性开路电压、饱和电流密度测试的条件保持一致。该检测方法通过对半成品进行测试，能够方便、快捷、直观地体现链式PECVD镀膜工艺稳定性，节约生产成本。

技术领域

本发明属于太阳能电池制备技术领域，尤其涉及一种链式PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法。

背景技术

太阳能电池制作过程中，PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)是其中重要的一道工序，其目的是在硅片表面形成一层具有减反射及钝化作用的薄膜，该薄膜的效果会直接影响太阳能电池的光电转换效率，进而影响电池的性能及可靠性。

为保证PECVD镀膜效果，目前传统的方法是定期进行镀膜设备的维护，或辅以膜厚折射率测量、电池电参数波动数据。其中，定期进行镀膜设备的维护并不能直观地监控镀膜的实际效果，原因如下：1)可能还未到维护时间，但是镀膜效果已经变差，待到达维护时间这期间，镀膜效果较差的硅片已经流转至下一工序，最终得到的太阳能电池光电转换效率降低，不合格品增多，生产成本增加；2)可能虽然到达镀膜设备的维护时间，但镀膜效果依然很稳定，可以延长设备维护时长，节约成本。

膜厚折射率的测量，其本身就具有一定的范围要求，具有局限性，无法直观的反映镀膜钝化效果；电池电参数虽然能够直观反映镀膜效果，但是检测电池电参数用时较长，在镀膜完成后，仍需流转完成后工序的制备(如图1所示)，最终对制得的太阳能电池进行性能检测才能得到电池电参数，如果电池电参数变差，说明镀膜效果差，而这期间，镀膜工艺仍在继续，会导致较多的不合格品生成，对应消耗较多高成本的辅材(如印刷电极栅线使用的银浆等)，无形中使得生产成本增加。

为降低不合格镀膜硅片的流转，节约生产成本，急需一种能够随时、准确地监控PECVD镀膜效果的方法。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法，该方法不仅能够方便快捷，直观地体现PECVD镀膜工艺的稳定性，而且可随时、准确地监控镀膜设备运行状态，可有效降低不合格镀膜硅片的流转，节约生产成本。

为达到上述发明目的，本发明实施例采用了如下的技术方案：

一种链式PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法，包括如下步骤：

采取相同的镀膜工艺下不同时间点完成的镀膜硅片，烧结得半成品；

分别对半成品进行PL(Photo Luminescence)和隐性开路电压(iVoc)测试，或PL和饱和电流密度(J₀)测试，或PL和隐性开路电压(iVoc)、饱和电流密度(J₀)测试；

根据测试结果评估不同时间点所述链式PECVD镀膜工艺的稳定性；

其中，不同时间点的镀膜硅片前端各工序工艺保持一致；

不同时间点中至少一个时间点选自整个镀膜工艺周期的0-3/5时间段内；

各半成品进行PL、隐性开路电压、饱和电流密度测试的条件保持一致。

PL测试即光致发光测试。