[发明专利]一种超薄玻璃单面减薄方法在审
| 申请号: | 202110707668.X | 申请日: | 2021-06-24 |
| 公开(公告)号: | CN113336447A | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
| 发明(设计)人: | 李章辉;徐政权;高坤旭;潘明明;李文铭 | 申请(专利权)人: | 重庆永信科技有限公司 |
| 主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;B24B7/24;B24B41/06 |
| 代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 孟迪 |
| 地址: | 402160 重庆市永川区星光大道*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 超薄 玻璃 单面 方法 | ||
1.一种超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:在玻璃基板的非减薄面贴覆贴附膜;
步骤2:对玻璃基板的减薄面进行抛光处理;
步骤3:对抛光后的玻璃基板进行清洗、干燥、去除贴附膜;
步骤4:在玻璃基板的非减薄面贴覆贴附膜后贴背板;
步骤5:将固定有背板的玻璃基板移入蚀刻槽,先进行蚀刻预处理以减弱或抑制玻璃基板表面缺陷后再进行单面薄化处理;
步骤6:将玻璃基板与背板分离后,对减薄后的玻璃基板进行清洗、干燥、去除贴附膜并检验。
2.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:所述贴附膜包括光解离膜和隔离层,所述隔离层覆盖在玻璃基板的有效电路区,所述光解离膜贴附在所述隔离层上且将玻璃基板的非减薄面覆盖。
3.根据权利要求2所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:所述光解离膜设置为UV解离膜,包括膜层和胶层,所述胶层设置为UV胶层。
4.根据权利要求3所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:去除贴附膜的方法是,使用紫外光线照射UV解离膜,使UV解离膜与玻璃基板分离,然后去掉隔离层。
5.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:所述步骤2中使用的抛光垫为抛光阻尼布,抛光去除的厚度为5~10μm。
6.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:对玻璃基板进行清洗所运用的清洗剂包括氢氧化钠和水,其质量百分比为氢氧化钠:水=1:100,PH为9~11,温度为38~42℃,冲洗3~5min。
7.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:所述背板上均匀设置有粘贴框,所述粘贴框远离所述玻璃基板的一侧粘贴有透明胶带,并通过透明胶带与玻璃基板一侧的贴附膜粘贴固定。
8.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:在所述步骤5中,蚀刻预处理所使用的预处理液浸泡的时间为40-50min,蚀刻去除的厚度为30~50μm;
所述预处理液包括氢氟酸、盐酸、硝酸和硫酸,分别占预处理液的总质量的2.3-2.7%、2.0-3.0%、7.0-7.6%、45.0-50.0%,其余成分为水;
或所述预处理液包括氢氟酸、硫酸,分别占预处理液的总质量的2.3-2.7%、45.0-50.0%,其余成分为水;
或所述预处理液包括氢氟酸、盐酸、硫酸,分别占预处理液的总质量的2.3-2.7%、2.0-3.0%、45.0-50.0%,其余成分为水。
9.根据权利要求1所述的超薄玻璃单面减薄方法,其特征在于:所述步骤5中,单面薄化处理的方法是将蚀刻预处理后的玻璃基板浸泡在30%~40%的氢氟酸顶喷式蚀刻槽内进行单面减薄,直至蚀刻到目标厚度。
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