[发明专利]太阳能电池及太阳能电池模组在审
申请号: | 202110702706.2 | 申请日: | 2015-10-14 |
公开(公告)号: | CN113437163A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 大塚宽之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/0288 | 分类号: | H01L31/0288;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;崔炳哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 模组 | ||
一种太阳能电池,其具备P型硅基板,该P型硅基板以一个主表面为受光面并以另一个主表面为背面,在该背面上具备部分地形成的多个背面电极,前述P型硅基板在前述受光面的至少一部分具有N型层,前述P型硅基板具有与前述背面电极接触的接触区域,前述P型硅基板是掺有镓的硅基板,前述P型硅基板的电阻率为2.5Ω·cm以下,前述多个背面电极的背面电极间距Prm与前述P型硅基板的电阻率Rsub满足由下式(1)表示的关系。一种太阳能电池及太阳能电池模组,所述太阳能电池使用光劣化得到抑制的基板,在所述太阳能电池中,抑制电阻损失,转换效率优异,log10(Rsub)≤‑log10(Prm)+1.0(1)。
本申请是申请日为2015年10月14日、申请号为201580061522.5、发明名称为“太阳能电池及太阳能电池模组”的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种太阳能电池及太阳能电池模组。
背景技术
太阳能电池用半导体基板通常利用提拉法(Czochraski method,CZ法)制造,所述CZ法能够用相对低的成本来制造大直径的单晶。例如,通过利用CZ法制作掺有硼的单晶硅,并将此单晶切成薄片,能够获得P型半导体基板。
单晶硅太阳能电池(使用单晶硅基板的太阳能电池)的以往的结构是一种整个背面(与受光面相对的表面)隔着背面场(Back Surface Field,BSF)结构而与电极接触的结构。
上述BSF结构利用丝网印刷法能够很容易地制造,因此,广泛普及,并成为当前的单晶硅太阳能电池的主流结构。
为了进一步提高效率,对上述BSF结构导入钝化发射极背面接触太阳能电池(Passivated Emitter and Rear Contact Solar Cell,PERC)结构、钝化发射极背面局部扩散太阳能电池(Passivated Emitter and Rear Locally Diffused Solar Cell,PERL)结构。
上述PERC结构及PERL结构是积极地减小背面侧的少数载流子再结合比例,也就是降低背面侧的有效的表面再结合速率的方法之一。
图9是示意性表示以往的PERC型太阳能电池的剖面图。如图9所示,太阳能电池110在掺有硼的硅基板(以下也称为掺硼基板。)113的受光面侧具备N型层112。在此N型层112上具备受光面电极111。多数情况下,在受光面上设有受光面钝化膜115。另外,在背面上具备背面钝化膜116。另外,在背面上具备背面电极114。另外,掺硼基板113具有与背面电极114接触的接触区域117。
图10是示意性地表示以往的PERL型太阳能电池的剖面图。如图10所示,相对于上述太阳能电池110,太阳能电池110′在背面电极114的正下方(以背面电极114作为表面侧来观察时)具备P+层(也就是以比周围区域(P型硅基板)更高的浓度掺有P型掺杂剂的层)119。另外,也可以在受光面电极111的正下方具备N+层(也就是以比周围的N型层112更高的浓度掺有N型掺杂剂的层)118。其它构造与图9的具有PERC结构的太阳能电池相同,因此,省略说明。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第WO00/073542号小册子。
发明内容
根据将太阳能电池制成上述具有PERC结构或PERL结构的太阳能电池,即使减小背面侧的少数载流子再结合比例,但如果基板为掺硼基板,晶格之间残留的氧原子和硼原子也会因光键合,在基板块体内生成再结合能级,少数载流子寿命变短,太阳能电池的特性下降。这种现象还被称作使用掺硼基板的太阳能电池的光劣化。
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