[发明专利]一种黑色矩阵的制备方法在审
| 申请号： | 202110699887.8 | 申请日： | 2021-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN113436548A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 刘召军;林永红;蒋府龙;刘亚莹 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | G09F9/33 | 分类号： | G09F9/33 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518055 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 黑色 矩阵 制备 方法 | ||
1.一种黑色矩阵的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)在基底上依次涂覆黑色聚合物和光刻胶；
(2)将光刻胶划分为曝光区和非曝光区，并将曝光区的光刻胶进行曝光和显影；
(3)再将步骤(2)所得样品表面镀抗刻蚀金属层；
(4)然后将非曝光区的光刻胶和金属层剥离；
(5)最后刻蚀非曝光区的黑色聚合物，得到所述黑色矩阵。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述黑色聚合物的厚度为5-10μm；
优选地，所述黑色聚合物包括含有碳黑的聚甲基丙烯酸甲酯、含有碳黑的聚亚酰胺、含有碳黑的聚乙烯醇或含有碳黑的环氧树脂中的任意一种或至少两种的组合。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述光刻胶的厚度为1-2μm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述显影采用的是显影液。
5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述非曝光区的宽度为8-10μm。
6.根据权利要求1-5任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述抗刻蚀金属层包括铬层、铝层、金层或银层中的任意一种或至少两种的组合。
7.根据权利要求1-6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述金属层的厚度为30-100nm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的制备方法，其特征在于，所述表面镀抗刻蚀的金属层的方式包括蒸镀。
9.根据权利要求1-8任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(5)中所述刻蚀包括等离子体刻蚀。
10.根据权利要求1-9任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
(1)在基底上依次涂覆5-10μm黑色聚合物和1-2μm光刻胶；
(2)将光刻胶划分为曝光区和8-10μm宽的非曝光区，并将曝光区的光刻胶进行曝光和显影；
(3)再将步骤(2)所得样品表面蒸镀厚度为30-100nm抗刻蚀金属层；
(4)然后将非曝光区的光刻胶和金属层剥离；
(5)最后采用等离子体法刻蚀非曝光区的黑色聚合物，得到所述黑色矩阵。
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