[发明专利]一种用于TFT模组加工的上料清洗装置有效

专利信息
申请号: 202110691261.2 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113319047B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 赵建国;易海兰 申请(专利权)人: 星源电子科技(深圳)有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;F26B5/16;H01L21/67
代理公司: 合肥信诚兆佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34159 代理人: 崇鑫
地址: 518132 广东省深圳市光明区玉塘街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 tft 模组 加工 清洗 装置
【说明书】:

发明涉及TFT显示技术领域,公开了一种用于TFT模组加工的上料清洗装置,包括工作台,工作台上矩形阵列分布有若干卡孔,卡孔内设卡接单元、用以卡接TFT基板;清洗机构,清洗机构包括若干根水平设于工作台上、下两侧的清洗管,清洗管沿工作台的宽度方向设置、并与卡孔的列数相同,清洗管的外侧沿其轴向安装有多个喷头,且清洗管的一端设置进液口、并连接外部供液机构;调节机构,调节机构与卡孔的列数相同,其用于调节相对设置在工作台上、下两侧的两根清洗管,以调整清洗管上喷头的喷液方向。本发明方便对TFT基板进行清洗,清洗量大,能够同时对TFT基板的两侧进行清洗,提高清洗效率。

技术领域

本发明涉及TFT显示技术领域,尤其涉及一种用于TFT模组加工的上料清洗装置。

背景技术

目前,传统的TFT(薄膜场效应晶体管)基板的清洗方法为:将抛光浆料研磨后的TFT基板放在洗片台内,用纯水喷淋TFT基板表面,后用拧干的海绵擦拭TFT基板表面,之后将TFT基板置于纯水槽中上下浮动2~3次浸泡,拿出后自然晾干,得到清洗后的TFT基板。

但是上述TFT基板的清洗方法存在一定的缺陷,如无法快速对TFT基板进行安装固定,并且不方便对基板的两侧同时进行清洗,清洗后表面残留的液体不方便擦拭,操作不够方便,降低了生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于TFT模组加工的上料清洗装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种用于TFT模组加工的上料清洗装置,包括

工作台,工作台上矩形阵列分布有若干卡孔,卡孔内设卡接单元、用以卡接TFT基板。

清洗机构,清洗机构包括若干根水平设于工作台上、下两侧的清洗管,清洗管沿工作台的宽度方向设置、并与卡孔的列数相同,清洗管的外侧沿其轴向安装有多个喷头,且清洗管的一端设置进液口、并连接外部供液机构。

调节机构,调节机构与卡孔的列数相同,其用于调节相对设置在工作台上、下两侧的两根清洗管,以调整清洗管上喷头的喷液方向。

进一步的,卡接单元包括开设在卡孔相对两内壁的凹槽一以及凹槽二,其中,凹槽一内水平滑动插接有卡块,凹槽二内水平滑动插接有卡板,凹槽一内设置与卡块连接的弹性件一,凹槽二内设置与卡板连接的弹性件二卡板和卡块用于承接TFT基板的两端,且TFT基板安装后,其连接卡板的一端伸入到对应的凹槽二内。

进一步的,弹性件一和弹性件二为水平方向伸缩的柱状弹簧,且弹性件二的弹性势能小于弹性件一的弹性势能,卡块的外端开设用于抵接TFT基板的阶梯槽,卡板为“L”型板状,在安装TFT基板前,卡板的水平部伸出凹槽二,卡块的阶梯槽伸出凹槽一。

进一步的,调节机构包括弧形杆、开设在工作台一侧的通孔,其中,弧形杆活动穿梭于通孔,通孔内设有调节单元、以驱动弧形杆旋转,且弧形杆的两端分别延伸至工作台的上、下两侧,弧形杆的两端分别和对应的清洗管连接。

进一步的,调节单元包括摇臂、转轴一,转轴一转动连接于工作台,转轴一的一端伸入到通孔内、并和摇臂的一端固定,摇臂的另一端固定于弧形杆。

进一步的,清洗管的一端和弧形杆转动连接,而弧形杆的一侧安装有驱动电机二,驱动电机二的输出轴与清洗管驱动联接。

进一步的,转轴一的一端贯穿伸出工作台,工作台的一侧还设有动力总成;

动力总成包括驱动电机一、传动盘、传动带,其中,转轴一的外端均安装有传动盘,各个传动盘之间通过传动带传动连接,驱动电机一固定在工作台的一侧、并驱动联接于其中一个传动盘。

进一步的,卡孔的上、下端口处均安装有用于吸收TFT基板表面水分的吸水机构。

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