[发明专利]一种甘草次酸衍生物Z型异构体及其制备方法

权利要求书

1.一种甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将甘草次酸衍生物E型异构体溶解于有机溶剂和水的混合溶剂中，在254-365nm光下搅拌，得到所述甘草次酸衍生物Z型异构体；

所述有机溶剂、水和甘草次酸衍生物E型异构体的配比为有机溶剂：水：甘草次酸衍生物E型异构体=10-15mL：5-10mL：0.1g；

所述甘草次酸衍生物Z型异构体的结构如式（I）所示：

（I）；

所述甘草次酸衍生物E型异构体的结构如式（Ⅱ）所示：

（Ⅱ）；

所述有机溶剂为极性有机溶剂，所述极性有机溶剂选自乙醇。

2.如权利要求1所述的甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，所述搅拌的时间为10-48h。

3.如权利要求1所述的甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，所述甘草次酸衍生物E型异构体的制备方法，包括如下步骤：

（1）将甘草次酸溶于有机溶剂A，加入氧化剂进行反应，结束后加入猝灭剂A猝灭，得到产物A；

（2）在氮气氛围下，将产物A、含氟基团化合物和碱溶于有机溶剂B中反应，结束后加入猝灭剂B猝灭，得到甘草次酸衍生物E型异构体。

4.如权利要求3所述的甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中，有机溶剂A为丙酮，氧化剂为琼斯试剂，猝灭剂A为甲醇；所述步骤（2）中，有机溶剂B为乙醇，碱为氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一种，含氟基团化合物为6-三氟甲基吡啶-3-甲醛，猝灭剂B为酸溶液。

5.如权利要求3所述的甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中，反应在0-4℃下进行，反应时间为2-3小时；所述步骤（2）中，反应温度为室温，反应时间为4h。

6.如权利要求3所述的甘草次酸衍生物Z型异构体的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中，甘草次酸和有机溶剂A的配比为1g：10-15mL；所述步骤（2）中，所述产物A、含氟基团化合物和碱的重量比为产物A：含氟基团化合物：碱=1-1.05：0.48-0.82：0.04-0.07。