[发明专利]掩膜板制作方法和掩膜板有效

专利信息
申请号: 202110670150.3 申请日: 2021-06-17
公开(公告)号: CN113388808B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 齐英旭;卓林海;王亚;郭宏伟;田斌 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: H01L21/266 分类号: H01L21/266
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 宋江
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 制作方法
【说明书】:

本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板,涉及掩膜板制作技术领域。在本申请中,首先,制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板,其中,预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域,掩膜图形位于掩膜区域内,堤坝结构位于非掩膜区域内。其次,将堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于焊接位置将预制图形板焊接于边框结构,得到包括预制图形板和边框结构的掩膜板,其中,堤坝结构用于增加将预制图形板焊接于边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积,第一方向为从堤坝结构到边框结构的方向。基于上述方法,可以改善基于现有的掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。

技术领域

本申请涉及掩膜板制作技术领域,具体而言,涉及一种掩膜板制作方法和掩膜板。

背景技术

在蒸镀工艺中,掩膜板(Mask)是一种重要的蒸镀工具,如普通金属掩膜板(CMM,Common Metal Mask)可以用于蒸镀共通层金属或有机材料。其中,普通金属掩膜板一般包括预制图形板(Sheet)和边框(Frame),预制图形板可以焊接在边框上,以增加预制图形板的结构稳定性。

但是,经发明人研究发现,基于现有的掩膜板制作技术制作形成的普通金属掩膜板,存在使用寿命较低的问题。

发明内容

有鉴于此,本申请的目的在于提供一种掩膜板制作方法和掩膜板,以改善基于现有掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。

为实现上述目的,本申请实施例采用如下技术方案:

一种掩膜板制作方法,包括:

制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板,其中,所述预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域内,所述堤坝结构位于所述非掩膜区域内;

将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构,得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板,其中,所述堤坝结构用于增加将所述预制图形板焊接于所述边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积,所述第一方向为从所述堤坝结构到所述边框结构的方向。

在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板的步骤,包括:

提供一具有掩膜图形的预制图形板,其中,所述预制图形板具有掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域;

对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度;

对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。

在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤,包括:

确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;

基于所述焊接能量,确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息;

基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构,且使得所述堤坝结构的宽度大于所述焊接点的直径。

在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤,包括:

确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;

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