[发明专利]掩膜板制作方法和掩膜板

权利要求书

1.一种掩膜板制作方法，其特征在于，包括：

制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板，其中，所述预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域，所述掩膜图形位于所述掩膜区域内，所述堤坝结构位于所述非掩膜区域内；

将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构，得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板，其中，所述堤坝结构用于增加将所述预制图形板焊接于所述边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积，所述第一方向为从所述堤坝结构到所述边框结构的方向；

其中，所述堤坝结构包括多个堤坝子结构，所述多个堤坝子结构间隔分布于所述掩膜板的非掩膜区域内，与所述预制图形板的非掩膜区域的四角对应位置处的所述堤坝子结构的厚度和宽度大于其他位置处所述堤坝子结构的厚度和宽度；

其中，所述制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板的步骤，包括：

提供一具有掩膜图形的预制图形板，其中，所述预制图形板具有掩膜区域和非掩膜区域，所述掩膜图形位于所述掩膜区域；

对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度；

对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构；

其中，所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤，包括：

确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量；基于所述焊接能量，确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息；基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构，且使得所述堤坝结构的宽度大于所述焊接点的直径；

或，确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量；基于所述焊接能量确定待形成的堤坝结构的厚度信息，其中，所述焊接能量大于融化所述堤坝结构所需的最小能量；基于所述厚度信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。

2.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板基于权利要求1所述的掩膜板制作方法制作形成。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述堤坝结构的宽度大于或等于0.5mm，且小于或等于1mm。

4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述堤坝结构的厚度大于或等于0.05mm，且小于或等于0.1mm。

5.根据权利要求2-4任意一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括预制图形板和边框结构，所述预制图形板上不具有堤坝结构的一面与所述边框结构接触连接，且在基于所述掩膜板进行蒸镀时，蒸镀源位于所述掩膜板上具有所述边框结构的一侧。