[发明专利]一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质

说明书

本发明实施例公开了一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质，涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域。所述镀膜设备靶位的功率调整方法：包括实时获取玻璃距靶位的距离；判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值；若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第一功率值；若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第二功率值；其中，第二功率值小于第一功率值。本发明能够避免能量浪费，更节能；进一步地，无需人工调整，节省人力；进一步地，功率调整控制精准，产品质量好。

技术领域

本发明涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域，尤其涉及一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质。

背景技术

外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50％以上。有关研究资料表明，玻璃内表面的传热以辐射为主，占58％，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射。普通浮法玻璃的辐射率高达0.84，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至0.1以下。随着低碳经济的发展，镀膜低辐射玻璃已成为建筑玻璃市场的主流。

由于不同设备、不同环境对镀膜玻璃的性能有很大的影响，每生产一种镀膜玻璃都要根据当时生产情况对产品根据产品的工作参数进行微调，使生产出的产品性能满足客户要求。镀膜线调片时，一锅只能放一片玻璃。这就造成很多靶位没有玻璃，在空烧，很浪费电能和靶材。现有技术通过人工调整靶位功率，耗费人力，控制精准度差，导致产品质量差。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是现有镀膜设备电能浪费严重的问题。

为了解决上述问题，本发明实施例提出如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整方法，包括：

实时获取玻璃距靶位的距离；

判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值；

若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第一功率值；

若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第二功率值；

其中，第二功率值小于第一功率值。

其进一步的技术方案为，所述实时获取玻璃距靶位的距离，包括：

检测玻璃是否到达镀膜室的入口；

若检测到玻璃到达镀膜室的入口，开始记录玻璃的传输时间；

根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离；

根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。

其进一步的技术方案为，所述检测玻璃是否到达镀膜室的入口，包括：

通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。

其进一步的技术方案为，所述根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离，包括：

计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。

其进一步的技术方案为，所述距离阈值为50-200mm。

第二方面，本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整装置，所述镀膜设备靶位的功率调整装置包括用于执行如第一方面所述的镀膜设备靶位的功率调整方法的单元。