[发明专利]对准标记结构在审
| 申请号： | 202110655029.3 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN114566486A | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 魏旭志;黄尧峰;温文莹 | 申请（专利权）人： | 新唐科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 薛平;郝博 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对准 标记 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种对准标记结构，其特征在于，包括：
基底；
透光层，设置在所述基底上；以及
反射层，覆盖所述透光层的整个顶面，其中所述反射层具有凹部。
2.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，所述透光层具有凹槽，且所述凹部对准所述凹槽。
3.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，还包括：
介电层，设置在所述反射层与所述透光层之间。
4.根据权利要求3所述的对准标记结构，其特征在于，所述介电层设置在所述凹部外的所述反射层与所述透光层之间。
5.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，所述反射层具有凹槽，且所述凹部对准所述凹槽。
6.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，所述反射层为单层结构。
7.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，所述反射层为多层结构。
8.根据权利要求7所述的对准标记结构，其特征在于，所述反射层包括：
第一反射层，覆盖所述透光层的整个顶面；以及
第二反射层，设置在所述第一反射层上，且具有暴露出所述第一反射层的开口。
9.根据权利要求8所述的对准标记结构，其特征在于，所述凹部对准所述开口。
10.根据权利要求1所述的对准标记结构，其特征在于，所述透光层的材料包括氮化镓、碳化硅、氮化铝、氮化铝镓或氮化铟镓。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新唐科技股份有限公司，未经新唐科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110655029.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：故障电弧断路器、电气设备及故障电弧检测方法
- 下一篇：断路器控制装置
