[发明专利]PCB沉铜工艺及其沉铜架有效
申请号: | 202110650085.8 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN113416948B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 伍海霞;梅佳月;周文光 | 申请(专利权)人: | 金禄电子科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;H05K3/42;H05K3/18 |
代理公司: | 惠州知侬专利代理事务所(普通合伙) 44694 | 代理人: | 罗佳龙 |
地址: | 511518 广东省清远市高新技术*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | pcb 工艺 及其 沉铜架 | ||
本申请提供一种PCB沉铜工艺及其沉铜架。上述的PCB沉铜架包括母篮和子篮,母篮包括第一支架、底座、第二支架及固定杆,第一支架与底座连接,第二支架与底座远离第一支架的一端连接,固定杆分别与第一支架及第二支架连接;子篮包括篮体和悬挂件,悬挂件连接于篮体的一侧,悬挂件用于与固定杆可拆卸挂接,篮体开设有定位凹槽,定位凹槽用于放置PCB。上述的PCB沉铜架操作更加简便且能够减少或避免PCB上下板擦花问题。
技术领域
本发明涉及印刷电路板技术领域,特别是涉及一种PCB沉铜工艺及其沉铜架。
背景技术
化学镀铜(Eletcroless Plating Copper)通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应,被广泛应用于有通孔的印制线路板(Printed Circuit Board,简称PCB)的生产加工中,印刷线路板的制作包括焊盘、过孔、阻焊层、丝印层、沉铜等部分的工序。沉铜技术被广泛应用于有通孔的印制线路板的生产加工中,沉铜主要是一种利用化学反应将铜镀在板上的技术,在已钻孔的不导电的孔壁基材上,采用化学的方法沉积上一层薄薄的铜,以作为后面电镀铜的基底。
PCB沉铜流程中除上板和下板外,均需要在药水缸中进行,各药水缸所添加的药水根据其功能而定。在此过程中,沉铜架作为PCB的运载工具将PCB按照沉铜流程依次浸入到药水缸内,反应完成后再提起送入到下一药水缸。沉铜架主要功能是将PCB固定在沉铜线机器上,以便沉铜工序的进行。
但是,现有的沉铜架体积较大,上下板时需要将沉铜架整个拆卸并安装,费时费力。此外,现有的沉铜工序过程中易造成PCB擦花等品质问题。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种操作更加简便且能够减少或避免PCB上下板擦花问题的PCB沉铜工艺及其沉铜架。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种PCB沉铜架,所述沉铜架包括母篮和子篮,所述母篮包括第一支架、底座、第二支架及固定杆,所述第一支架与所述底座连接,所述第二支架与所述底座远离所述第一支架的一端连接,所述固定杆分别与所述第一支架及所述第二支架连接;所述子篮包括篮体和悬挂件,所述悬挂件连接于所述篮体的一侧,所述悬挂件用于与所述固定杆可拆卸挂接,所述篮体开设有定位凹槽,所述定位凹槽用于放置所述PCB。
在其中一个实施例中,所述子篮还包括提手环,所述提手环与所述篮体连接。
在其中一个实施例中,所述篮体开口处的宽度大于所述篮体底部的宽度。
本申请还提供一种PCB沉铜工艺,采用如上任一实施例所述的PCB沉铜架对所述PCB进行沉铜操作,所述PCB沉铜工艺包括以下步骤:
将所述PCB放置在所述子篮中;
将所述母篮固定在沉铜线上;
将装有所述PCB的所述子篮挂入所述母篮中;
对所述PCB进行预处理操作,得到预处理PCB;
对所述预处理PCB进行沉铜操作,得到沉铜PCB;
将所述子篮从所述母篮中卸下,并对所述子篮中的所述沉铜PCB进行更换操作。
在其中一个实施例中,在将PCB放置在子篮中的步骤之后,以及在将母篮固定在沉铜线上的步骤之前,所述PCB沉铜工艺还包括以下步骤:
对所述PCB进行冲洗操作。
在其中一个实施例中,在将PCB放置在子篮中的步骤之后,以及在将母篮固定在沉铜线上的步骤之前,所述PCB沉铜工艺还包括以下步骤:
对所述PCB进行除油操作。
在其中一个实施例中,所述预处理操作具体包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金禄电子科技股份有限公司,未经金禄电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110650085.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种耐热型密封圈及其成型工艺
- 下一篇:一种A级防火铝复合板及其安装施工方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理