[发明专利]一种深孔抛光装置及抛光方法

说明书

一种深孔抛光装置及抛光方法，属于光学零件深孔抛光技术领域，包括工件自转装置、工件往复移动装置、抛光工具旋转装置及抛光液循环装置。工件往复移动装置设于工件自转装置侧面，其移动方向平行于工件深孔轴线，其中，工件自转装置固定在往复移动装置上，工件沿工件自转装置的轴线穿过固定连接在转盘上，转盘带动工件做回转运动。抛光工具旋转装置带动抛光刷做回转运动，抛光刷穿过抛光孔并对抛光工具旋转装置进行XYZ方向微调，调整抛光刷位置。抛光液循环装置用于实现抛光过程中的抛光液循环作用。本发明能够避免抛光装置顺着深孔内壁抛光中出现局部差异度较高的问题，改善抛光质量，可适应多种孔径深孔和抛光毛刷，保证灵活可调性。

技术领域

本发明属于光学零件深孔抛光技术领域，涉及一种深孔抛光装置及抛光方法，本发明还可对多小孔进行抛光。

背景技术

随着光学器件的小型、高精、阵列化发展，其加工和制造难度也不断增大。深小孔作为一种常见的难加工结构广泛应用于光纤、激光器等光学元器件中。如应用于光纤陀螺仪、偏振传感等领域的保偏光纤，保偏光纤预制棒上的应力孔便是一种典型的深小孔。光纤应力棒要镶嵌到应力孔中，并保证最小间隙的滑动配合。因此孔的直线度、内孔的表面粗糙度、两孔对称性等都会对拉丝后得到的保偏光纤的性能及强度产生直接影响。

但是，现有的深孔抛光装置存在以下几个问题，专利CN112123184A提出了一种抛光装置及抛光方法，该装置和方法尽管能够对不同规格管道进行稳固，同时根据管道直径进行调节装置，在具备一定灵活性的前提下保证抛光效果，但该装置和方法对于较长工件内孔抛光时，需要逐步调节抛光装置位置，保证抛光到深孔最内端，无法一次性完成所有内孔壁面的抛光，费时费力，影响抛光效率。专利CN111975468A提出了一种石英深孔抛光装置及抛光方法，该装置和方法能够实现抛光毛毡在深孔内的旋转和轴向移动的复合抛光运动，并使得抛光液能够进行自吸式循环，提高了抛光效率，但是该装置和方法对于多小孔进行抛光时，装置调节复杂，且无法保证对深孔内壁360度充分抛光，会造成局部差异度较大的问题，无法满足抛光精度要求。同时，由于此类预制棒零件应力孔直径小长度大，以上专利及其它深孔抛光设备复杂、抛光工具多为大尺寸抛光轮或者大尺寸插杆式的抛光刷，无法实现此类元器件深细小孔的抛光要求。因此需要提供一种针对多小孔深孔抛光的装置和方法，确保抛光效率和抛光精度。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种多间距深小孔抛光装置及抛光方法，以解决(回转)光学元器件上的多小孔深孔的抛光精度抛光效率不高的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种深孔抛光装置，该装置用于对回转光学元器件上的各个深孔进行抛光，其中回转光学元器件上的各个深孔轴线平行且贯穿回转光学元器件工件。所述的深孔抛光装置包括工件自转装置4、工件往复移动装置1、抛光工具旋转装置2以及抛光液循环装置3。所述的工件往复移动装置1设于工件自转装置4的侧面，其移动方向平行于工件深孔轴线，其中，工件自转装置4通过夹具和转接板螺栓连接固定在工件往复移动装置1上，工件25沿工件自转装置4的轴线穿过固定连接在工件自转装置4的转盘20上，转盘20带动工件25做回转运动，从而保证工件25围绕抛光孔26轴线回转运动的情况下同时能够沿其轴线方向往复运动；所述的抛光工具旋转装置2夹持住抛光刷22两端，带动抛光刷22做回转运动，所述的抛光刷22沿工件25深孔轴线平行穿过抛光孔26，并可通过XYZ轴微调平台b12和XYZ轴微调平台a16对抛光工具旋转装置2进行XYZ方向微调从而调整抛光刷22的位置。抛光液循环装置3设于整体装置侧面，实现抛光过程中的抛光液循环作用。通过本装置能够实现多间距回转光学元器件深孔的高质高效抛光。