[发明专利]氢填充设备在审
| 申请号： | 202110635823.1 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN113775922A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 吉田雄一 | 申请（专利权）人： | 株式会社龙野 |
| 主分类号： | F17C5/06 | 分类号： | F17C5/06;F17C13/04;F17C13/02;F17C13/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 马利蓉;吴鹏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 填充 设备 | ||
1.一种氢填充设备，包括：
多个填充系统；
用于各所述填充系统的填充控制装置；
填充管，其与各所述填充系统中的后部设备连通；
一组填充构件，其插置在各所述填充管中并且连接到各所述填充控制装置；以及
连接到各所述填充管的填充软管，各填充软管在末端处具有填充喷嘴；
其中，所述多个填充控制装置中的一个填充控制装置具有选择性地施加第一控制模式和第二控制模式的功能，第一控制模式仅控制包括所述填充控制装置的所述填充系统，第二控制模式被共享为用于所述填充系统的控制装置，并且设置有用于在所述填充控制装置中的所述一个填充控制装置中在所述第一控制模式和所述第二控制模式之间切换的切换装置。
2.根据权利要求1所述的氢填充设备，其中具有选择性地施加第一控制模式和第二控制模式的功能的所述填充控制装置经由继电器装置连接到另一填充控制装置，并且具有在所述第二控制模式下经由所述继电器装置调节配备有另一填充控制装置的所述填充系统中的所述填充构件的功能。
3.如权利要求1或2所述的氢填充设备，其中，所述填充构件具有在所述第二控制模式下累加并显示各所述填充系统中的填充量的功能。
4.根据权利要求1至3之一所述的氢填充设备，其中，所述填充控制装置具有在所述第二控制模式下当在所述填充系统中测量的最高压力达到填充结束压力时结束所述填充系统中的填充的功能。
5.一种氢填充设备，包括：
多个填充系统；
用于控制所述填充系统的单个填充控制装置；
填充管，其与各填充系统中的后部设备连通；
一组填充构件，其插置在各所述填充管中并且连接到所述填充控制装置；以及
填充软管，其连接到各所述填充管，各填充软管在末端处具有填充喷嘴；
其中，所述填充控制装置具有选择性地施加第一控制模式和第二控制模式的功能，所述第一控制模式逐个地控制各所述填充系统，所述第二控制模式综合地控制所述填充系统。
6.如权利要求5所述的氢填充设备，其中，所述填充构件具有在所述第二控制模式下累加并显示每个所述填充系统中的填充量的功能。
7.如权利要求5或6所述的氢填充设备，其中，所述填充控制装置具有在所述第二控制模式下当在所述填充系统中测量的最高压力达到填充结束压力时结束所述填充系统中的填充的功能。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社龙野，未经株式会社龙野许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110635823.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
