[发明专利]掩模坯料用玻璃衬底

权利要求书

1.一种掩模坯料用玻璃衬底，其在0.1μm^-1以上且20μm^-1以下的空间频率下具有1,000nm⁴以下的圆形平均功率谱密度的最大值，通过用原子力显微镜测量10μm×10μm区域的表面形貌获得该最大值。

2.根据权利要求1所述的掩模坯料用玻璃衬底，其中当通过空间频率(f)的函数af^-β表示圆形平均功率谱密度时，在1μm^-1以上且10μm^-1以下的空间频率(f)下的系数β(分形系数)为0.7以上。

3.根据权利要求1或2所述的掩模坯料用玻璃衬底，其中通过用原子力显微镜测量10μm×10μm的区域的表面形貌得到的表面粗糙度(RMS)的值为0.15nm以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的掩模坯料用玻璃衬底，其中在0.4mm^-1以上且100mm^-1以下的空间频率下的圆形平均功率谱密度的最大值为10¹²nm⁴以下，通过用白光干涉仪测量6mm×6mm区域的表面形貌获得该最大值。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的掩模坯料用玻璃衬底，其中142mm×142mm区域的平坦度(TIR)为100nm以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模坯料用玻璃衬底，其中所述掩模坯料用玻璃衬底是含有5-10重量％二氧化钛的掺杂二氧化钛的合成石英玻璃衬底。