[发明专利]一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法

权利要求书

1.一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，包括以下步骤,其特征在于：

S1：材料的选取和根据聚乙烯膜厚度对材料比例的确定；

S2：对选取的材料进行混合热熔，并通过料斗进行上料；

S3：物料塑化挤出；

S4：吹胀牵引；

S5：风环冷却；

S6：人字夹板；

S7：牵引辊牵引；

S8：电晕处理；

S9：薄膜收卷。

2.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中选取的原料为A:溶体流动速率为0.5g/10min的茂金属和B:溶体流动速率为0.3g/10min的低密度聚乙烯。

3.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（3）应控制挤出温度在160到170摄氏度之间，且必须保证机头的温度均匀。

4.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（4）中应控制吹胀后膜泡的直径与未吹胀的管环直径之间的比值在2.5到3.0之间。

5.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（5）中应保证冷却风环四周的送风量一致且送风角度合适，确保对薄膜的冷却均匀。

6.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（7）中牵引速度与管环挤出速度之间的比值控制在4～6之间。

7.根据权利要求1所述的一种低溶出物的聚乙烯膜制备方法，其特征在于：所述步骤（8）中应确保电晕处理电压与薄膜的厚度成正向关系，薄膜制品越高，所需处理电压越高，通常用于薄膜的处理电压范围在10000-20000V之间。