[发明专利]量子点修饰方法在审
| 申请号： | 202110606729.3 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113403061A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 王子琪;王士攀 | 申请（专利权）人： | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;C09K11/56;C09K11/62;C09K11/66;C09K11/88 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 王径武 |
| 地址： | 510000 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 量子 修饰 方法 | ||
1.一种量子点修饰方法，其特征在于，所述量子点修饰方法包括以下步骤：
确定介电常数小于或者等于预设数值的第一溶剂与介电常数大于所述预设数值的第二溶剂；
根据配体、所述第一溶剂与所述第二溶剂得到介电常数为2～10的目标配体溶液；
将所述目标配体溶液与待修饰量子点溶液混合反应，得到目标量子点溶液。
2.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述根据配体、所述第一溶剂与所述第二溶剂得到介电常数为2～10的目标配体溶液的步骤包括：
将所述第一溶剂与所述第二溶剂混合，得到介电常数为2～10的混合溶剂；
将所述配体与所述混合溶剂混合，得到所述介电常数为2～10的目标配体溶液。
3.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述根据配体、所述第一溶剂与所述第二溶剂得到介电常数为2～10的目标配体溶液的步骤包括：
将所述配体与所述第二溶剂混合，得到配体溶液；
将所述配体溶液与所述第一溶剂混合，得到所述介电常数为2～10的目标配体溶液。
4.如权利要求3所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述配体溶液的质量浓度为1～40mg/ml，所述目标配体溶液的质量浓度为1～10mg/ml。
5.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述配体包括R-CHNH2COOH、PEA-X、R-CH2-X、卤化物胺盐和有机胺中的一种或多种，所述R为烷基链，所述X为单价卤素阴离子。
6.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述第一溶剂包括辛烷、正己烷、庚烷、甲苯、氯苯、间二甲苯、邻二甲苯和对二甲苯中的一种或多种，所述第二溶剂包括乙醇、丙酮、甲醇、正己醇和二甲基甲酰胺中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述将所述目标配体溶液与待修饰量子点溶液混合反应的步骤包括：
将所述目标配体溶液与所述待修饰量子点溶液以1:100～30:100的体积比混合反应。
8.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述预设数值为5，所述确定介电常数小于或者等于预设数值的第一溶剂与介电常数大于所述预设数值的第二溶剂的步骤包括：
确定介电常数小于或者等于5的所述第一溶剂与介电常数大于5的所述第二溶剂。
9.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述第一溶剂与所述第二溶剂的体积比为2:1。
10.如权利要求1所述的量子点修饰方法，其特征在于，所述目标配体溶液的介电常数为4～5。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东聚华印刷显示技术有限公司，未经广东聚华印刷显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110606729.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
