[发明专利]瓷介电容保护方法有效
申请号: | 202110603149.9 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113347806B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 宋克非;刘世界;陈波;韩振伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | H05K3/34 | 分类号: | H05K3/34 |
代理公司: | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 高一明;郭婷 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容 保护 方法 | ||
1.一种瓷介电容保护方法,其特征在于,用于空间电子设备中的瓷介电容保护,包括以下步骤:
S1、将瓷介电容的两根引线弯曲成倒圆弧直角型,所述的两根引线在弯曲成型时,其圆弧倒角半径要求为所述的两根引线直径的3~5倍;
S2、将所述两根引线与电路板进行焊接;
S3、分层对所述瓷介电容与所述电路板之间进行注胶加固,在注胶时用注射器分层从所述电路板表面开始逐层注胶,直到与所述瓷介电容连接后,继续注胶至大于所述瓷介电容下端面积的1/3,形成瓷介电容加固胶结构;
S4、将所述两根引线与所述电路板的焊接处分别进行点胶灌封。
2.如权利要求1所述的瓷介电容保护方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述两根引线在成型时对所述两根引线的根部进行防护。
3.如权利要求1所述的瓷介电容保护方法,其特征在于,在所述步骤S2中,所述瓷介电容的最下端到所述电路板的垂直距离大于3毫米,使所述瓷介电容与所述电路板之间预留出安装空间。
4.如权利要求3所述的瓷介电容保护方法,其特征在于,在所述安装空间中排列焊接小型元器件。
5.如权利要求1所述的瓷介电容保护方法,其特征在于,在所述步骤S4中,所述两根引线与所述电路板的焊接处进行点胶灌封后,形成加固胶结构,所述两个加固胶结构无接触。
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