[发明专利]一种显示面板及其制备方法在审
申请号: | 202110599967.6 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113327966A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 郑爽 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;G06K9/00 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 李远思 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板及设置在所述阵列基板出光侧的色阻层,所述阵列基板包括多个像素单元和多个光学指纹传感器,所述色阻层包括多个彩膜层及设置在彩膜层之间的黑矩阵,所述黑矩阵开设有多个开孔,所述多个彩膜层与所述多个像素单元对应,所述多个开孔与所述多个光学指纹传感器对应,所述黑矩阵的远离所述阵列基板的一侧的至少部分区域设置有阵列排布的反射金属。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述反射金属的高度取值为0.2μm-0.5μm。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述反射金属在平行于所述阵列基板方向上的截面面积取值为3μm2-5μm2。
4.根据权利要求1中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述阵列排布的反射金属中的相邻反射金属的间距取值为1μm-5μm。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述反射金属在平行于所述阵列基板方向上的截面呈矩形、正六边形或圆形。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,每一开孔周围的反射金属相对于所述开孔呈中心对称分布。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括衬底及分别设置在所述衬底两侧的发光层和传感器层,所述阵列基板的出光侧为所述发光层的远离所述衬底一侧,所述发光层包括所述多个像素单元,所述传感器层包括所述多个光学指纹传感器,所述衬底开设有多个透光孔,所述多个透光孔与所述多个光学指纹传感器对应。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括设置在所述色阻层的远离所述阵列基板一侧的平坦化层,所述平坦化层具有第一折射率;至少部分所述开孔中设置有具有第二折射率的透光层,所述第二折射率大于所述第一折射率。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述第一折射率取值为1.5,所述第二折射率取值为1.7。
10.一种如权利要求1-9中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
形成阵列基板,其中,所述阵列基板包括多个像素单元和多个光学指纹传感器;
在所述阵列基板的出光侧形成色阻层,其中,所述色阻层包括多个彩膜层及设置在彩膜层之间的黑矩阵,所述黑矩阵开设有多个开孔,所述多个彩膜层与所述多个像素单元对应,所述多个开孔与所述多个光学指纹传感器对应;
在所述黑矩阵的远离所述阵列基板的一侧的至少部分区域形成阵列排布的反射金属。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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