[发明专利]一种半导体可饱和吸收体锁模装置

说明书

本发明涉及一种半导体可饱和吸收体锁模装置，包括具有一内腔的壳体，所述壳体左侧的第一通孔内密封固定有光斑聚焦装置，所述壳体右侧的第二通孔内密封固定有无磁隔板，从而使所述内腔形成为密封空间，所述无磁隔板的左右两侧上分别紧贴有第一永磁体、第二永磁体，所述第一永磁体远离无磁隔板的一侧固定连接热沉，所述热沉远离第一永磁体的一侧固定连接半导体可饱和吸收体元件，所述半导体可饱和吸收体元件远离热沉的一侧固定连接透光导热盖板，所述第一永磁体与第二永磁体通过磁力吸附实现磁力随动；避免半导体可饱和吸收体直接暴露在激光聚焦焦斑中，可切换点是二维的且无盲点，换点操作简单，有利于提高装置可靠性及使用寿命。

技术领域

本发明涉及激光技术领域，尤其涉及一种半导体可饱和吸收体锁模装置。

背景技术

近年来，由于激光加工、激光传感、光纤通信、量子通信、生物医疗、激光探测、科学研究的进一步发展，各种激光都得到了越来越多的应用。其中最为大众所熟知的是激光精细加工。在对产品良率和效益越来越重视的当代工业生产中，加工设备的随机故障，将给加工企业带来难以接受的损失。作为很多精密加工设备核心模块的超快激光器，其长时稳定性和可靠性成为超快激光加工设备的长时稳定工作的基础。而在众多的超快激光发生方案中，被动锁模光纤激光种子源和固体激光种子源由于其易于实现和相对低成本最受亲睐。但而作为被动锁模中的明星技术的半导体可饱和吸收体锁模技术，则是业内又爱又怕的技术；因为一方面，它最为易用成熟；另一方面，它又有易于损伤从而停止工作的风险。

为了解决半导体可饱和吸收体某一点出现损伤后影响继续工作的问题，人们研究了许多换点装置或方法的方案。公告号为CN212277618U的中国实用新型专利提出了一种半导体可饱和吸收镜的换点装置，其通过设置螺杆与移动平台水平螺接以驱动移动平台带动SESAM底座沿水平直线移动，使得半导体可饱和吸收镜沿聚焦镜出射的光束的垂直方向直线移动，以切换半导体可饱和吸收镜的工作点；公告号为CN105977777B的中国发明专利提出了一种更换SESAM工作点的方法及相关设备，利用位置调整机构对SESAM和SESAM前反射镜的反射角度进行调节，每次更换工作点只需要SESAM第一角度和SESAM前反射镜转动第二角度即可；公布号为CN110661165A的中国发明申请提出了一种多点位置自动切换的SESAM锁模方法，当聚焦在SESAM上的点受到损伤不能锁模时，监测控制电路探测到锁模失效信号后，能给出状态信号传递到监测控制电路的相应装置上如单片机上，而单片机发出控制信号给监测控制电路上的相应装置上，进而使多路光开关切换到另外一路光路，这时超短脉冲光纤激光器可以利用SESAM锁模模块的另外一个点工作，避开了前面的损伤点。前两个专利的换点方案，采用机械连接方式难免出现位置跳动，从而存在不能顺利锁模的风险；而第三个发明专利申请的技术方案虽然有换点高效、每个点都能充分保证寿命的特点，但是其设置多路光路并通过多路光开关切换电路实现换点，其成本随着点数增加而增加，体积越来越大、控制越来越复杂。更重要的是，上述的三个技术方案的半导体可饱和吸收体直接暴露在激光聚焦焦斑中，长期多脉冲的累积热量无法得到有效传导，易于造成降低损伤阈值，一旦发生一点或多点损伤，其材料剥离物将散布于封闭的空间之内，随机污染腔内物质，包括污染半导体可饱和吸收体本身，导致后续的换点意义越来越低，使得实际上后续的新点寿命越来越短。

故，现有技术具有较大的改进空间。

发明内容

本发明的目的是为了弥补现有技术的不足，提出一种半导体可饱和吸收体锁模装置，通过在半导体可饱和吸收体元件上固定透光导热盖板并形成有密封的壳体内腔，提高装置的可靠性及使用寿命，设置所述第一永磁体与第二永磁体通过磁力吸附实现磁力随动，换点操作简单快捷，可切换点是二维的且无盲点从而进一步提高装置的使用寿命。

为了达到上述目的，本发明通过以下技术方案实现：