[发明专利]半导体装置及其制造方法有效
申请号: | 202110598491.4 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113035858B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 彭博;孟怀宇;沈亦晨 | 申请(专利权)人: | 杭州光智元科技有限公司 |
主分类号: | H01L25/18 | 分类号: | H01L25/18;H01L23/498;H01L21/56;H01L21/60;G06E3/00 |
代理公司: | 北京三环同创知识产权代理有限公司 11349 | 代理人: | 赵勇;邵毓琴 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种半导体装置,其特征在于,包括
基板;
光子集成电路PIC芯片,所述PIC芯片具有第一表面;
电子集成电路EIC芯片,所述EIC芯片位于所述PIC芯片与所述基板之间;
所述PIC芯片与所述EIC芯片进行电连接;
其中,所述EIC芯片的周围的至少一部分设置有封装材料,所述封装材料中设置有过孔导电结构,在所述PIC芯片到所述基板的电连接路径中,包括经过所述过孔导电结构的电连接路径。
2.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述PIC芯片包括PIC布线结构,所述EIC芯片包括EIC布线结构;在所述PIC芯片到所述基板的电连接路径中,包括先后经过所述PIC布线结构、所述EIC布线结构、所述基板的电连接路径。
3.如权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,包括PIC再布线结构、第一键合结构、EIC再布线结构一、EIC再布线结构二、过孔导电结构、第二键合结构中的至少一个结构;并且,上述至少一个结构满足:
所述PIC布线结构到所述EIC布线结构的电连接路径中,先后经过PIC再布线结构、第一键合结构、EIC再布线结构一中的至少一个,和/或
所述EIC布线结构到所述基板的电连接路径中,先后经过EIC再布线结构二、过孔导电结构、第二键合结构中的至少一个。
4.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,所述EIC芯片通过第一键合结构与所述PIC芯片连接;
所述EIC芯片通过连接结构与所述基板连接,所述连接结构包括:与所述第一键合结构电连接的第一段连接结构、与所述第一段连接结构电连接的第二段连接结构、以及与所述第二段连接结构电连接的第二键合结构,其中所述第二段连接结构包括所述过孔导电结构;
其中,所述EIC芯片通过所述第二键合结构与所述基板连接。
5.如权利要求4所述的半导体装置,其特征在于,所述第一段连接结构自所述EIC芯片上的所述第一键合结构的连接点横向延伸并超出所述EIC芯片;
所述第二段连接结构自所述第一段连接结构朝着所述基板纵向延伸,并止于所述第二键合结构。
6.如权利要求1或4或5所述的半导体装置,其特征在于,所述EIC芯片周围的封装材料具有两个以上的过孔导电结构,选取与其布线距离非最远的至少一个过孔导电结构与所述EIC芯片进行连接。
7.如权利要求1至5任意一项所述的半导体装置,其特征在于,所述PIC芯片朝向所述基板的投影面积大于至少一个EIC芯片朝向所述基板的投影面积之和。
8.一种半导体装置,其特征在于,包括
基板;
光子集成电路PIC芯片,所述PIC芯片具有第一表面;
电子集成电路EIC芯片,所述EIC芯片位于所述PIC芯片与所述基板之间;
其中,所述PIC芯片与所述EIC芯片进行电连接;
其中,所述电子集成电路EIC芯片包括至少两个EIC芯片,所述至少两个EIC芯片中,包括第一EIC芯片、第二EIC芯片,所述第一EIC芯片、第二EIC芯片之间具有封装材料,所述封装材料中设置至少一个过孔导电结构;在所述PIC芯片到所述基板的电连接路径中,包括经过所述过孔导电结构的电连接路径。
9.如权利要求8所述的半导体装置,其特征在于,所述第一EIC芯片周围的封装材料具有两个以上的过孔导电结构,选取与其布线距离非最远的至少一个过孔导电结构与所述第一EIC芯片进行连接。
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