[发明专利]掩膜结构及掩膜结构制作方法

说明书

本申请实施例提供的掩膜结构及掩膜结构制作方法，涉及显示技术领域。限定蒸镀区域的至少一个支撑件上设置靠近蒸镀区域且位于支撑件朝向掩膜版单元一面的第一减薄区，可以在磁性背板产生的磁力将掩膜结构吸附在基板上时，使位于蒸镀区域边缘位置处的网格区域褶皱可以在第一减薄区内延展，以减缓或避免在蒸镀区域边缘位置处因网格区域褶皱产生的贴合不良。在蒸镀时，显示面板的有效显示区边缘不会因贴合不良引起的阴影效应而出现有机发光材料混色，确保有效显示区边缘不会存在因有机发光材料混色引起的显示色差，提高使用掩膜结构制作得到的显示面板的显示质量。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种掩膜结构及掩膜结构制作方法。

背景技术

衡量显示面板的显示质量，除了显示分辨率、显示色彩饱和度等关键性指标之外，还包括显示色差这一指标。然而，显示面板在其有效显示区的边缘容易显示色差的问题，这会影响显示面板的显示质量。基于此，如何避免显示面板在其有效显示区边缘的显示色差是本领域技术人员急需解决的技术问题。

发明内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种掩膜结构及掩膜结构制作方法。

本申请的第一方面，提供一种掩膜结构，所述掩膜结构包括：

支撑框架，所述支撑框架包括支撑件，所述支撑件包括多个沿第一方向间隔排布的第一支撑件及多个沿第二方向间隔排布的第二支撑件，所述第一方向与所述第二方向相交，多个所述第一支撑件与多个所述第二支撑件限定出至少一个蒸镀区域；

至少一个掩膜版单元，所述至少一个掩膜版单元固定在所述支撑框架上，每个所述掩膜版单元包括至少一个网格区域，每个所述蒸镀区域对应一所述网格区域；

用于限定所述蒸镀区域的多个支撑件中的其中至少一个包括第一减薄区以及第一全厚区，所述第一减薄区设置于所述支撑件靠近所述蒸镀区域的边缘且位于所述支撑件朝向所述掩膜版单元的一侧，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一减薄区的厚度小于所述第一全厚区的厚度。

基于上述结构，通过在限定蒸镀区域的至少一个支撑件上设置靠近蒸镀区域且位于支撑件朝向掩膜版单元一面的第一减薄区，可以在磁性背板产生的磁力将掩膜结构吸附在基板上时，使位于蒸镀区域边缘位置处的网格区域褶皱可以在第一减薄区内延展，以减缓或避免在蒸镀区域边缘位置处因网格区域褶皱产生的贴合不良，其中，蒸镀区域对应基板中显示面板的有效显示区。在采用上述掩膜结构进行蒸镀时，基板在蒸镀区域边缘所对应的区域不会因贴合不良引起的阴影效应(shadow)而出现有机发光材料混色的现象，确保有效显示区边缘不会存在因有机发光材料混色引起的显示色差，提高制作显示面板的显示质量。

在本申请的一种可能实施例中，在所述蒸镀区域，所述第一支撑件或所述第二支撑件包括一遮挡区，所述遮挡区在平行于所述蒸镀区域的平面沿远离第一支撑件的方向延伸，或在平行于所述蒸镀区域的平面沿远离第二支撑件的方向延伸。

在本申请的一种可能实施例中，所述遮挡区还包括第二减薄区及第二全厚区，所述第二减薄区靠近所述蒸镀区域且位于所述遮挡区朝向所述掩膜版单元的一面，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第二减薄区的厚度小于所述第二全厚区的厚度。

在本申请的一种可能实施例中，所述第一支撑件在与所述第二支撑件交叠位置处设置有朝向所述第二支撑件的第一凹槽；和/或，

所述第二支撑件在与所述第一支撑件交叠位置处设置有朝向所述第一支撑件的第二凹槽。

在本申请的一种可能实施例中，在所述第一支撑件包括第一凹槽时，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一凹槽的深度为所述第一支撑件的厚度的1/3～1/2；

在所述第二支撑件包括第二凹槽时，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第二凹槽的深度为所述第二支撑件的厚度的1/3～1/2。