[发明专利]掩膜结构及掩膜结构制作方法

权利要求书

1.一种掩膜结构，其特征在于，所述掩膜结构包括：

支撑框架，所述支撑框架包括支撑件，所述支撑件包括多个沿第一方向间隔排布的第一支撑件及多个沿第二方向间隔排布的第二支撑件，所述第一方向与所述第二方向相交，多个所述第一支撑件与多个所述第二支撑件限定出至少一个蒸镀区域，其中，所述蒸镀区域由相邻的两个所述第一支撑件与相邻的两个所述第二支撑件限定得到；

至少一个掩膜版单元，所述至少一个掩膜版单元固定在所述支撑框架上，每个所述掩膜版单元包括至少一个网格区域，每个所述蒸镀区域对应一所述网格区域；

用于限定各个所述蒸镀区域的多个支撑件中的其中至少一个包括第一减薄区以及第一全厚区，所述第一减薄区设置于所述支撑件靠近所述蒸镀区域的边缘且位于所述支撑件朝向所述掩膜版单元的一侧，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一减薄区的厚度小于所述第一全厚区的厚度，且所述第一减薄区的厚度沿靠近蒸镀区域的方向依次降低。

2.如权利要求1所述的掩膜结构，其特征在于，在所述蒸镀区域，所述第一支撑件或所述第二支撑件包括一遮挡区；

所述遮挡区在平行于所述蒸镀区域的平面沿远离第一支撑件的方向延伸，或，在平行于所述蒸镀区域的平面沿远离第二支撑件的方向延伸。

3.如权利要求2所述的掩膜结构，其特征在于，所述遮挡区还包括第二减薄区及第二全厚区，所述第二减薄区设置于所述遮挡区靠近所述蒸镀区域的边缘且所述第二减薄区位于所述遮挡区朝向所述掩膜版单元的一侧，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第二减薄区的厚度小于所述第二全厚区的厚度。

4.如权利要求2或3所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一支撑件在与所述第二支撑件交叠位置处设置有朝向所述第二支撑件的第一凹槽；和/或，

所述第二支撑件在与所述第一支撑件交叠位置处设置有朝向所述第一支撑件的第二凹槽。

5.如权利要求4所述的掩膜结构，其特征在于，在所述第一支撑件包括第一凹槽时，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一凹槽的深度为所述第一支撑件的厚度的1/3~1/2；

在所述第二支撑件包括第二凹槽时，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第二凹槽的深度为所述第二支撑件的厚度的1/3~1/2。

6.如权利要求2或3所述的掩膜结构，其特征在于，所述支撑框架还包括用于固定所述支撑件的主框架；

所述第一支撑件、所述第二支撑件及所述掩膜版单元依次与所述主框架固定，所述第二支撑件部分覆盖于所述第一支撑件之上，所述掩膜版单元沿所述第一方向部分覆盖于所述第二支撑件之上。

7.如权利要求3所述的掩膜结构，其特征在于，所述第一减薄区与所述第二减薄区在平行于所述蒸镀区域的平面且垂直于所述支撑件延伸方向的宽度为0.5~1mm；

在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一减薄区的厚度为所述第一全厚区的厚度的1/2~3/4，所述第二减薄区的厚度为所述第二全厚区的厚度的1/2~3/4。

8.如权利要求7所述的掩膜结构，其特征在于，在所述第一支撑件和所述第二支撑件均包括第一减薄区以及第一全厚区时，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一支撑件的第一全厚区的厚度与所述第二支撑件的第一全厚区的厚度相等，所述第一支撑件的第一减薄区的厚度与所述第二支撑件的第一减薄区的厚度相等。

9.如权利要求1-3中任意一项所述的掩膜结构，其特征在于，所述掩膜版单元包括精密金属掩模条。

10.如权利要求1-3中任意一项所述的掩膜结构，其特征在于，所述支撑件还包括用于支撑所述掩膜版单元的支撑面以及位于所述支撑面的第一限位部，所述掩膜版单元还包括设置在与所述支撑面接触的贴合面上的第二限位部，通过所述第一限位部与所述第二限位部的配合限制所述掩膜版单元在平行于所述蒸镀区域的平面相对于所述支撑件移动。

11.一种掩膜结构制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供多个支撑件；

对所述多个支撑件中的至少部分支撑件进行减薄处理，以在所述至少部分支撑件上形成经过减薄处理的第一减薄区以及未经过减薄处理的第一全厚区；

将所述多个支撑件进行固定，以得到限定出至少一个蒸镀区域的支撑框架，其中，用于限定各个所述蒸镀区域的多个支撑件中的其中至少一个包括所述第一减薄区以及所述第一全厚区，所述第一减薄区靠近所述蒸镀区域，其中，所述蒸镀区域由相邻的两个第一支撑件与相邻的两个第二支撑件限定得到，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述第一减薄区的厚度小于所述第一全厚区的厚度，且所述第一减薄区的厚度沿靠近蒸镀区域的方向依次降低；

提供至少一个掩膜版单元，并将所述至少一个掩膜版单元固定在所述支撑框架上，其中，所述掩膜版单元朝向所述第一减薄区，所述掩膜版单元包括至少一个网格区域，每个所述网格区域分别与一所述蒸镀区域对应。