[发明专利]遮罩、遮罩的制造方法及用于制造遮罩的母模

权利要求书

1.一种遮罩，其特征在于，包括：

一第一面；

一第二面，相对于该第一面，并具有多个外凸曲面；

多个通孔，连通该第一面与该第二面，其中各该通孔具有一外凸壁面，其连接于该第一面与该第二面之间；以及

多个凸块，分别形成于该些外凸曲面上，其中各该凸块凸出于该外凸曲面。

2.如权利要求1所述的遮罩，其特征在于，各该外凸壁面不垂直于该第一面。

3.如权利要求1所述的遮罩，其特征在于，该第二面的各该外凸曲面的曲率半径大于各该通孔的该外凸壁面的曲率半径。

4.如权利要求1所述的遮罩，其特征在于，该遮罩的材料包括镍与铁，该遮罩的镍重量百分比介于35至50％间，而该遮罩的铁重量百分比介于50至65％间。

5.一种母模，用于制造如权利要求1所述的遮罩，其特征在于，该母模是由一导电基板所制成，并包括：

一第一平面；

一第二平面，相对于该第一平面；以及

一凹刻图案，显露于该第一平面，其中该凹刻图案对应该遮罩，该凹刻图案具有多个凹洞，而各该凹洞具有一内凹曲面。

6.如权利要求5所述的母模，其特征在于，各该凹洞的深度小于该第一平面与该第二平面之间的厚度。

7.如权利要求5所述的母模，其特征在于，该导电基板的材料为不锈钢。

8.一种遮罩的制造方法，其特征在于，包括：

在一导电基板上形成一第一光阻层，其中该导电基板具有一第一平面与一相对该第一平面的第二平面，而该第一光阻层局部覆盖该第一平面；

以该第一光阻层为遮罩，从未被该第一光阻层覆盖的部分该第一平面蚀刻该导电基板，以形成具有多个凹洞的一母模；

对该母模进行电铸，以在各该凹洞内沉积一金属材料；以及

在对该母模进行电铸之后，移除该母模；

还包括在从未被该第一光阻层覆盖的部分该第一平面蚀刻该导电基板之后，移除该第一光阻层；

在移除该第一光阻层之后，以及在对该母模进行电铸之前，在该母模上形成一第二光阻层，其中该第二光阻层覆盖该些凹洞，并具有多个电镀开口，而该些电镀开口分别位于该些凹洞内。

9.如权利要求8所述的遮罩的制造方法，其特征在于，在对该母模进行电铸的期间，保留该第二光阻层。

10.如权利要求8所述的遮罩的制造方法，其特征在于，各该凹洞的深度小于该第一平面与该第二平面之间的厚度。

11.如权利要求8所述的遮罩的制造方法，其特征在于，在对该母模进行电铸的期间，保留该第一光阻层。

12.如权利要求8所述的遮罩的制造方法，其特征在于，蚀刻该导电基板的方法为湿蚀刻。