[发明专利]电磁装置、电磁装置的制备方法及绕组组件

权利要求书

1.一种电磁装置，其特征在于，包括磁芯组件和绕组组件；

所述绕组组件包括层叠设置的第一绕组、隔膜和第二绕组，所述第一绕组的中部设有第一通孔，所述第二绕组的中部设有第二通孔，所述隔膜设置在第一绕组与第二绕组之间，以至少部分阻隔所述第一通孔与第二通孔贯通；所述绕组组件是将所述第一绕组、所述隔膜和所述第二绕组压制形成的整体结构；

所述磁芯组件包括第一磁芯和第二磁芯，所述第一磁芯具有第一磁芯本体和第一磁芯柱，所述第一磁芯柱的一端与所述第一磁芯本体相连，所述第一磁芯柱的另一端穿过所述第一绕组的第一通孔后与所述隔膜的第一表面接触，所述第二磁芯具有第二磁芯本体和第二磁芯柱，所述第二磁芯柱的一端与所述第二磁芯本体相连，所述第二磁芯柱的另一端穿过所述第二绕组的第二通孔后与所述隔膜的第二表面接触，所述第一表面与所述第二表面相对；

所述隔膜的厚度与所述磁芯组件所需气隙的高度一致。

2.根据权利要求1所述的电磁装置，其特征在于，所述隔膜上处于所述第一通孔与所述第二通孔之间的区域设有通孔。

3.根据权利要求1所述的电磁装置，其特征在于，所述隔膜的材质为非导电材质。

4.根据权利要求1所述的电磁装置，其特征在于，所述隔膜的面积大于所述第一通孔和所述第二通孔的横截面积，所述隔膜的第一表面的边沿处于所述第一绕组的外沿与所述第一通孔之间，所述隔膜的第二表面的边沿处于所述第二绕组的外沿与所述第二通孔之间。

5.根据权利要求1所述的电磁装置，其特征在于，所述第一磁芯柱的数量、所述第二磁芯柱的数量与所述绕组组件的数量相同。

6.根据权利要求5所述的电磁装置，其特征在于，

在所述第一磁芯和所述第二磁芯均为U型磁芯的情况下，所述第一磁芯柱为所述第一磁芯的边柱，所述第二磁芯柱为所述第二磁芯的边柱；

在所述第一磁芯和所述第二磁芯均为E型磁芯的情况下，所述第一磁芯柱为所述第一磁芯的中柱，所述第二磁芯柱为所述第二磁芯的中柱。

7.一种电磁装置的制备方法，用于制备权利要求1-6中任意一项所述的电磁装置，其特征在于，包括以下步骤：

获取第一磁芯、第二磁芯和绕组组件，所述第一磁芯包括第一磁芯柱，所述第二磁芯包括第二磁芯柱，所述绕组组件包括层叠设置的第一绕组、隔膜和第二绕组，所述第一绕组的中部设有第一通孔，所述第二绕组的中部设有第二通孔，所述隔膜设置在第一绕组与第二绕组之间，并至少部分阻隔所述第一通孔与第二通孔贯通；

将所述第一磁芯柱插入所述第一绕组的第一通孔中，使所述第一磁芯柱的端面与所述隔膜的第一表面接触，将所述第二磁芯柱插入所述第二绕组的第二通孔中，使所述第二磁芯柱的端面与所述隔膜的第二表面接触，所述第一表面与所述第二表面相对。

8.一种绕组组件，其特征在于，所述绕组组件应用于权利要求1-6中任意一项所述的电磁装置，所述绕组组件包括层叠设置的第一绕组、隔膜和第二绕组，所述第一绕组的中部设有第一通孔，所述第二绕组的中部设有第二通孔，所述隔膜设置在第一绕组与第二绕组之间，以至少部分阻隔所述第一通孔与第二通孔贯通，所述绕组组件是将所述第一绕组、所述隔膜和所述第二绕组压制形成的整体结构；所述隔膜的厚度与所述电磁装置的磁芯组件所需气隙的高度一致。