[发明专利]光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置在审
申请号: | 202110553631.6 | 申请日: | 2021-05-20 |
公开(公告)号: | CN113715374A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 大泷雅士;久米悦夫;仓本贤尚 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | B29D11/00 | 分类号: | B29D11/00;G02B5/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 层叠 制造 方法 装置 | ||
1.一种光学层叠体的制造方法,是具有至少1个包含光学膜的层的光学层叠体的制造方法,
该制造方法包括:
贴合工序,将彼此不同的2个膜经由能量射线活化型的粘接剂贴合而形成贴合膜;以及
活化处理工序,一边使所述贴合膜接触辊、一边在所述辊上向所述贴合膜照射能量射线而进行所述粘接剂的活化处理,
所述辊在其内部具备流通热介质的热介质流路,
所述制造方法在一边在所述热介质流路中流通热介质、一边将所述辊维持为满足式(1)的范围内的状态下进行所述活化处理工序:
式(1):0<X1/X2≤3.5
X1:由辊的表面的宽度方向上的最大温度差产生的辊内的热介质的热量,单位为KJ;X2:辊内的热介质的热容量,单位为KJ/K。
2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法,其中,
所述活化处理工序还包括在满足式(2)的范围内流通热介质的操作:
式(2):X1/(3.5×Sc)≤X2/Sc≤V
Sc:热介质的比热,单位为KJ/K·L;V:辊中的热介质的最大容量,单位为L。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法,其中,
所述活化处理工序还包括使所述辊的表面的宽度方向的温度分布为3℃以下的操作。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学层叠体的制造方法,其中,
所述活化处理工序还包括从热介质流路的下游侧将所述辊内的空气向所述辊外排出的操作。
5.一种光学层叠体的制造装置,是具有至少1个包含光学膜的层的光学层叠体的制造装置,
该制造装置具备:
贴合装置,其将彼此不同的2个膜经由能量射线活化型的粘接剂贴合而形成贴合膜;
辊,与所述贴合膜接触、且在其内部具备流通热介质的热介质流路;
活化处理装置,其在所述辊上向所述贴合膜照射能量射线,进行所述粘接剂的活化处理;以及
控制装置,在利用所述活化处理装置进行所述粘接剂的活化处理时,以将所述辊维持为满足式(1)的范围内的方式进行控制:
式(1):0<X1/X2≤3.5
X1:由辊的表面的宽度方向上的最大温度差产生的辊内的热介质的热量,单位为KJ;X2:辊内的热介质的热容量,单位为KJ/K。
6.根据权利要求5所述的光学层叠体的制造装置,其中,
在利用所述活化处理装置进行所述粘接剂的活化处理时,所述控制装置还以在满足式(2)的范围内流通热介质的方式进行控制:
式(2):X1/(3.5×Sc)≤X2/Sc≤V
Sc:热介质的比热,单位为KJ/K·L;V:辊中的热介质的最大容量,单位为L。
7.根据权利要求5或6所述的光学层叠体的制造装置,其中,
在利用所述活化处理装置进行所述粘接剂的活化处理时,所述控制装置还以使所述辊的表面的宽度方向的温度分布为3.5℃以下的方式进行控制。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的光学层叠体的制造装置,其中,
所述辊还在热介质流路的下游侧具有与所述热介质流路连通而将所述热介质流路内的空气向辊外排出的排空气流路。
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