[发明专利]一种上流式加氢反应器

权利要求书

1.一种上流式加氢反应器，其特征在于，包括反应器筒体和连接于所述反应器筒体的内壁的至少1个气液分布装置，所述反应器筒体的上下两端分别为出口端和入口端，当所述气液分布装置的数量大于或等于2时，多个所述气液分布装置由下至上间隔设置于所述入口端和所述出口端之间；

每个所述气液分布装置均包括气液分布盘以及位于所述气液分布盘上方的支撑格栅，所述支撑格栅的表面连接有多个朝向下支出的支撑梁，多个所述支撑梁与所述支撑格栅之间形成多个独立区域，所述支撑梁支出的端部与所述气液分布盘之间具有用作气液均布空间的间隙以使经过所述气液分布盘的气液在所述气液均布空间混合后再进入所述独立区域；

每个所述气液分布装置中，所述支撑梁的端部与所述气液分布盘之间的间隙为50-200mm；

所述出口端设有出口收集器，所述出口收集器包括中心聚集器和设置于所述中心聚集器外围的整形积垢装置；

所述整形积垢装置包括第一折流件，所述第一折流件包括位于所述中心聚集器下方的第一折流板和连接于所述第一折流板的周缘的第一挡板，所述第一挡板由所述第一折流板向上支出；

所述第一折流件还包括连接于所述第一挡板表面的第二挡板，沿所述反应器筒体的径向方向，所述第二挡板位于所述第一挡板与所述中心聚集器之间并由所述第一折流板向上支出；

所述第二挡板的支出长度短于所述第一挡板的支出长度；

所述整形积垢装置包括第二折流件，所述第二折流件包括第二折流板和第三挡板，所述第二折流板连接于所述中心聚集器的外壁，所述第三挡板由所述第二折流板向下支出。

2.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述气液分布盘的开孔率为10-50%。

3.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，每个所述气液分布装置中，所述气液分布盘的表面还连接有导向板，所述导向板由所述的气液分布盘的上表面向所述气液均布空间延伸。

4.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，沿所述反应器筒体的轴向方向，所述第三挡板与所述第一折流板之间的距离小于所述第二挡板的高度。

5.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述入口端设有入口扩散器。

6.根据权利要求5所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述反应器筒体的入口端内壁留有向上支出的筋板，所述入口扩散器连接于所述筋板；或，所述入口扩散器安装于位于最下方的所述气液分布装置的所述气液分布盘的下表面。

7.根据权利要求6所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述入口扩散器为平板型或锥板型。

8.根据权利要求7所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述入口扩散器的表面设有多个通孔或通缝。

9.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述反应器筒体的内壁设有用于支撑所述气液分布盘的第一凸台。

10.根据权利要求9所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述反应器筒体的内壁还设有用于支撑所述支撑格栅的第二凸台；或，所述反应器筒体的内壁设有支撑裙筒，所述支撑裙筒的一端连接于所述第一凸台，另一端用于支撑所述支撑格栅。

11.根据权利要求1所述的上流式加氢反应器，其特征在于，所述上流式加氢反应器还包括与所述气液分布装置数量一致的床层压盖，所述床层压盖对应位于每个所述气液分布装置中所述支撑格栅的上方且所述床层压盖的边缘连接于所述反应器筒体的内壁。