[发明专利]掩膜装置及蒸镀方法

说明书

本申请实施例所提供的掩膜装置及蒸镀方法，掩膜装置的掩膜本体的表面开设有朝掩膜装置的图形区域方向延伸的沟槽，且沟槽靠近图形区域的一端具有用于对蒸镀材料进行阻隔的封堵部。如此设计，在掩膜装置与阵列基板完成蒸镀对位之后，封堵部可以避免在蒸镀时蒸镀材料通过沟槽蒸镀到阵列基板的功能组件上，进而避免功能组件出现剥离，避免阵列基板报废，确保后续能够进行相关膜层制作，提高显示设备的成品良率。

技术领域

本申请属于显示设备制造技术领域，具体涉及一种掩膜装置及蒸镀方法。

背景技术

在显示设备的制备过程中，通常利用掩膜板并结合相关的蒸镀工艺将发光材料蒸镀到阵列基板上。然而在向阵列基板进行发光材料蒸镀时，阵列基板上存在的功能组件(例如测试元件组)容易出现剥离，进而无法进行后续的相关膜层制作，降低了显示设备的成品良率。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种掩膜装置及蒸镀方法，封堵部可以用于阻隔蒸镀材料，避免在蒸镀时蒸镀材料通过沟槽蒸镀到阵列基板的功能组件上，进而避免功能组件出现剥离，确保后续能够进行相关膜层制作，提高显示设备的成品良率。

本申请实施例的第一方面，提供了一种掩膜装置(100)，包括：

图形区域(10)，以及

环绕所述图形区域(10)的掩膜本体(20)；

所述掩膜本体(20)开设有向所述图形区域(10)延伸的沟槽(21)，所述沟槽(21)靠近所述图形区域(10)的一端具有用于对蒸镀材料进行阻隔的封堵部(22)。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述封堵部(22)包括第一表面(221)以及连接在所述第一表面(221)和所述沟槽(21)的底面(211)之间的第一侧面(222)，所述掩膜本体(20)包括用于与待蒸镀的基板(30)接触的第二表面(201)，所述第一表面(221)与所述第二表面(201)共面。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述第一侧面(222)与所述底面(211)斜交；

优选地，所述第一侧面(222)与所述底面(211)斜交形成的夹角为钝角。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述封堵部(22)还包括靠近所述图形区域(10)一侧的第二侧面(223)，所述掩膜本体(20)还包括靠近所述图形区域(10)一侧的第三侧面(202)，所述第二侧面(223)与所述第三侧面(202)共面；

优选地，所述第二侧面(223)与所述第一侧面(222)平行。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述第一表面(221)在所述沟槽(21)延伸方向上的宽度为0.5mm～1mm。

在第一方面的一个可替换的实施例中，还包括加强件(40)；

所述加强件(40)固定设置于所述第一表面(221)以及所述第二表面(201)。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述封堵部(22)用于遮挡待蒸镀的基板(30)上设置的功能组件(31)。

在第一方面的一个可替换的实施例中，沿着远离所述图形区域(10)的方向，所述沟槽(21)的底面(211)与所述第一表面(221)所在平面之间的垂直间距递增。

在第一方面的一个可替换的实施例中，所述沟槽(21)还包括第四侧面(212)以及连接在所述第四侧面(212)与所述底面(211)之间的弧面(213)。

本申请实施例的第二方面，提供了一种蒸镀方法，采用第一方面所述的掩膜装置(100)对基板(30)进行蒸镀，所述方法包括：