[发明专利]一种偏光片用抗静电光学离型膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种偏光片用抗静电光学离型膜，自上而下包括离型层、基材层和抗静电层，所述离型层包括以下重量份的组分：乙烯基聚二甲基硅氧烷20‑40份，含氢聚硅氧烷3‑8份，锚固剂0.5‑1.5份，化学改性无机粒子0.05‑0.2份，氟改性有机硅树脂3‑8份，铂催化剂2‑4份，有机溶剂130份。本发明具有离型力稳定、快速剥离力低、抗静电性、高透光率、高残余接着率等特点，主要用于偏光片类产品的压敏胶层保护和运输使用，不会在偏光片运输和下游制成中产生静电吸附灰尘，不会在使用中产生气泡不良，也不会在下游制成过程中快速剥离离型膜产生剥离不良，影响良率。

【技术领域】

本发明涉及离型膜的技术领域，特别是偏光片用抗静电光学离型膜及其制备方法的技术领域。

【背景技术】

偏光片全称是偏正光片，一般由保护膜层、TAC薄膜层、PVA薄膜层、TAC 薄膜层、压敏胶层、离型膜层组成，是液晶显示成像的重要组成部分，为了保护偏光片中压敏胶层在产品运输过程和制成过程中不被污染，需要贴合上一层合适的光学离型膜以保护好偏光片产品中的压敏胶层；这层光学离型膜要求离型力稳定、PSA适配性强、高残余接着率、平整度高、抗静电性、大宽幅等特点；且需要离型膜对偏光片压敏胶层能够满足快速剥离制成要求，目前国内的一些偏光片企业需求的偏光片用离型膜宽幅都已经达到2200mm，由于国内的离型膜公司开发偏光片类产品用光学离型膜起步较晚，以及涂布线的宽幅和精密性问题，偏光片企业目前使用离型膜大部分依赖日韩企业，极大增加了国内偏光片企业产品的成本，进行国产化偏光片用抗静电光学离型膜的制备和研究具有重要意义。

现有的偏光片用抗静电光学离型膜具有离型力不够稳定、快速剥离力过高、抗静电性能低的缺陷。

【发明内容】

本发明的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种偏光片用抗静电光学离型膜及其制备方法，能使离型膜的离型力稳定、快速剥离力低、抗静电性能强。

为实现上述目的，本发明提出了一种偏光片用抗静电光学离型膜，自上而下包括离型层、基材层和抗静电层，所述离型层包括以下重量份的组分：乙烯基聚二甲基硅氧烷20-40份，含氢聚硅氧烷3-8份，锚固剂0.5-1.5份，化学改性无机粒子0.05-0.2份，氟改性有机硅树脂3-8份，铂催化剂2-4份，有机溶剂130份；所述化学改性无机粒子的径粒范围为50-400nm；所述化学改性无机粒子为硅烷偶联剂KH-570改性的二氧化硅、氧化铝、二氧化钛中的一种或者多种。

作为优选，所述离型层包括以下重量份的组分：乙烯基聚二甲基硅氧烷30 份，含氢聚硅氧烷5份，锚固剂1份，化学改性无机粒子0.1份，氟改性有机硅树脂5份，铂催化剂3份，有机溶剂130份；所述化学改性无机粒子的径粒为200nm；所述化学改性无机粒子为硅烷偶联剂KH-570改性的二氧化硅。

作为优选，所述氟改性有机硅树脂制备方法如下：室温下将20份,1,3,5- 三(3,3,3-三氟丙基)-1,3,5-三甲基环三硅氧烷和3份碳酸钙，投入搅拌釜中，升温至90-130℃，搅拌均匀，抽真空除去体系水分，冷却至室温得到基础胶料；然后将所述基础胶料、8份甲基三甲氧基硅烷和6份N-(β-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷投入在高速分散搅拌机中，搅拌时间10-30min，搅拌速率为 2000-3500r/min；接着通氮气，搅拌下加入0.01份二硫醇甲基锡，搅拌时间 30-50min，搅拌速率为1500-2500r/min，抽真空脱气泡，最后得到所述氟改性有机硅树脂。

作为优选，所述含氢聚硅氧烷为甲基含氢聚硅氧烷、乙基含氢聚硅氧烷、苯基含氢聚硅氧烷中的一种或者多种。

作为优选，所述锚固剂为硅烷偶联剂KH-560。

作为优选，所述铂催化剂为质量分数为5％的Karstedt催化剂。

作为优选，所述有机溶剂包括甲苯和乙酸乙酯，甲苯和乙酸乙酯的质量比为10:3。