[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其包括设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件的处理模块，该基板处理装置的特征在于，

该基板处理装置具备：

基板输送模块，其具备供用于收纳多个所述基板的容器载置的容器载置部和相对于所述容器交接所述基板的第1输送机构，该基板输送模块相对于所述处理模块设于左右中的一方；

所述基板的输送路径，其在所述处理模块沿左右延伸；

多个层段，其在相对于所述输送路径的前后中的一方以所述液处理组件在纵向上成列的方式构成所述处理模块，并且分别包括该液处理组件；

第1处理组件，其在相对于所述输送路径的前后中的另一方在纵向上设置多个，并在所述液处理组件的处理之前或之后进行所述基板的处理；

第2输送机构，其在所述输送路径上移动而在所述液处理组件与所述第1处理组件之间输送所述基板；

第2处理组件，其在所述基板输送模块处的利用所述第1输送机构输送基板的输送区域的上方以前后的长度比左右的长度长的方式设置，或以从所述输送路径向前后中的一方或另一方突出的方式设置，其对所述基板进行与由所述第1处理组件进行的处理不同的处理；

第3输送机构，其相对于所述第2处理组件交接所述基板；以及

交接部，其设于所述输送路径的左右中的一侧，供所述基板载置，用于在所述第1输送机构、所述第2输送机构以及所述第3输送机构之间交接该基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2处理组件设为从所述输送路径向相对于该输送路径的前后中的一方或另一方突出，并与所述交接部重叠。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第3输送机构相对于所述输送路径设于与所述第2处理组件所突出的一侧相反的一侧。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2处理组件相对于所述输送路径突出的一侧是前后中的一侧，

所述第3输送机构相对于所述输送路径设于前后中的另一侧。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述交接部包括在纵向上成列并且分别载置所述基板的多个基板载置部，

在一个所述基板载置部与另一个所述基板载置部之间设有所述第2处理组件。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2处理组件的从所述输送路径突出的部位与用于贮存处理液的贮存区域在俯视观察时重叠，所述处理液在各所述液处理组件向所述基板供给。

7.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述交接部包括在纵向上成列并且分别载置所述基板的多个基板载置部，

所述第3输送机构具备：

突出侧输送机构，其在所述第2处理组件相对于所述输送路径突出的一侧与该第2处理组件重叠地设置；以及

非突出侧输送机构，其相对于所述输送路径设于与所述突出的一侧相反的一侧，

所述非突出侧输送机构在所述第2处理组件与所述基板载置部之间输送所述基板，

所述突出侧输送机构在各基板载置部间输送所述基板。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第2处理组件包括在纵向上排列的上侧的第2处理组件和下侧的第2处理组件，

所述突出侧输送机构设于上侧的第2处理组件与下侧的第2处理组件之间，

所述非突出侧输送机构具备相对于所述上侧的第2处理组件交接所述基板的上侧非突出侧输送机构和相对于所述下侧的第2处理组件交接所述基板的下侧非突出侧输送机构。