[发明专利]一种薄盐层建库的水平盐腔建造方法在审

专利信息
申请号: 202110505457.8 申请日: 2021-05-10
公开(公告)号: CN115324646A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 李康;完颜祺琪;冉莉娜;垢艳侠;李东旭;丁国生;郑得文 申请(专利权)人: 中国石油天然气股份有限公司
主分类号: E21F17/16 分类号: E21F17/16;E21B43/00;E21B43/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 闫加贺;姚亮
地址: 100007 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄盐层建库 水平 建造 方法
【权利要求书】:

1.一种薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述薄盐层建库的水平盐腔建造方法包括:

步骤10、钻取直井,所述直井的完钻深度至薄盐层的底界以上,所述直井的固井深度至所述薄盐层的顶界以下,待所述直井完成后,下入直井注水管柱和第一排卤管柱进行建槽溶腔;

步骤20、距离所述直井设定距离钻取水平井,并使所述水平井与所述直井连通,所述水平井具有依次连接的竖直段、造斜段和水平段;

步骤30、对所述水平段进行分段溶腔操作;

步骤40、对所述造斜段进行溶腔操作。

2.根据权利要求1所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤10中,建槽溶腔时的注水排量为30m3/h至50m3/h,建槽时间为一至两个月。

3.根据权利要求1所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤10中,在进行建槽溶腔前,通过所述直井的生产套管环空注入阻溶剂至设定位置。

4.根据权利要求2所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤10中,在进行建槽溶腔前,通过所述直井的生产套管环空注入阻溶剂至设定位置。

5.根据权利要求3所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤10中,所述设定位置位于所述第一排卤管柱底部之上,且设定位置与第一排卤管柱底部之间的距离为2-4m。

6.根据权利要求4所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤10中,所述设定位置位于所述第一排卤管柱底部之上,且设定位置与第一排卤管柱底部之间的距离为2-4m。

7.根据权利要求1所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述直井的完钻深度至薄盐层的底界以上5m-10m。

8.根据权利要求1所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述直井的固井深度至所述薄盐层的顶界以下15m-20m。

9.根据权利要求1所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤20包括:

距离所述直井200米以上钻取水平井,并使所述水平井与所述直井连通;

所述水平段具有深度相同的水平段起始点靶点与水平段终止点靶点,以使所述水平段终止点靶点位于所述直井进行建槽溶腔后形成的腔体中。

10.根据权利要求1或9所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述水平段的长度介于200m-500m之间。

11.根据权利要求1或9所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述水平井的固井深度与所述直井的固井深度相同。

12.根据权利要求9所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,所述步骤30包括:

步骤31、将所述水平段起始点靶点与所述水平段终止点靶点之间划分为多个等长的水平井分段,相邻两个水平井分段之间形成交接点,且靠近所述直井的第一交接点位于所述腔体中;

步骤32、向所述直井中下入第二排卤管柱,向所述水平井中下入水平井注水管柱,并使所述水平井注水管柱的出口位于所述第一交接点处;

步骤33、向所述水平井注水管柱中注水,由所述第二排卤管柱进行排卤,进行所述第一交接点处的造腔操作。

13.根据权利要求12所述的薄盐层建库的水平盐腔建造方法,其特征在于,每一所述水平井分段的长度为30-60m。

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