[发明专利]基板检查装置及基板检查方法

权利要求书

1.一种基板检查装置，其中，包括：

第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；

第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光，并获得所述基板的二维图像；

存储器，其存储表示所述基板上预先设置的关心区域的信息；

处理器，其基于表示所述关心区域的信息，导出所述基板的多个区域中的第一区域；

第二光源，其朝向所述第一区域照射激光；及

第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述第一区域发生的光干涉数据，

所述处理器基于所述光干涉数据，导出关于所述第一区域的涂覆膜的厚度。

2.根据权利要求1所述的基板检查装置，其中，

所述处理器基于所述二维图像，导出关于所述多个区域中各区域的涂覆膜的涂覆量，将所述多个区域中的涂覆量在预先设置量以下的区域决定为第二区域，

所述第二光源朝向所述第二区域照射激光，所述第二光传感器获得从所述第二区域发生的光干涉数据，所述处理器基于来自所述第二区域的光干涉数据，导出关于所述第二区域的涂覆膜的厚度。

3.根据权利要求1所述的基板检查装置，其中，

所述处理器基于所述二维图像，将所述基板中判断为有缺陷的区域决定为第三区域，

所述第二光源朝向所述第三区域照射激光，所述第二光传感器获得从所述第三区域发生的光干涉数据，所述处理器基于来自所述第三区域的光干涉数据，导出关于所述第三区域的涂覆膜的厚度。

4.根据权利要求1所述的基板检查装置，其中，

所述存储器还存储显示所述基板上多个元件的排列的元件排列信息，

所述处理器比较所述元件排列信息和所述二维图像，导出所述多个区域中的包括所述元件的电极的第四区域，

所述第二光源朝向所述第四区域照射激光，所述第二光传感器获得从所述第四区域发生的光干涉数据，所述处理器基于来自所述第四区域的光干涉数据，导出关于所述第四区域的涂覆膜的厚度。

5.根据权利要求1所述的基板检查装置，其中，

从所述涂覆膜的表面反射的反射光被用作基准光。

6.根据权利要求5所述的基板检查装置，其中，

所述处理器基于来自所述第一区域的光干涉数据，获得显示与所述涂覆膜的深度方向对应的沿第一轴方向的剖面的剖面图像，

以所述剖面图像上的边界线为基础，决定关于所述第一区域的涂覆膜的所述厚度。

7.根据权利要求5所述的基板检查装置，其中，

所述涂覆膜的表面对所述激光的反射率，由混合有所述荧光染料的所述涂覆膜的荧光染料混合率决定，

所述荧光染料混合率设置为使得所述反射率超过预先设置的基准值的值。

8.根据权利要求5所述的基板检查装置，其中，

所述涂覆膜借助于在丙烯酸、乌拉坦、聚氨酯、硅、环氧、紫外线固化物质及红外线固化物质中选择的至少一种物质而形成。

9.根据权利要求5所述的基板检查装置，其中，

所述涂覆膜的表面以曲面形成。

10.一种基板检查方法，其中，包括：

朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线的步骤；

捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像的步骤；

基于表示所述基板上预先设置的关心区域的信息与所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的第一区域的步骤；

朝向所述第一区域照射激光，获得借助于所述激光而从所述第一区域发生的光干涉数据的步骤；及

基于所述光干涉数据，导出关于所述第一区域的涂覆膜的厚度的步骤。