[发明专利]显示面板、显示面板的制作方法和显示装置有效
申请号: | 202110501304.6 | 申请日: | 2021-05-08 |
公开(公告)号: | CN113299850B | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 潘杰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 汪阮磊 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,包括:基板,以及依次设置于所述基板上的发光器件和封装层结构;所述显示面板被划分为:屏下装置区和非屏下装置区,其特征在于,所述屏下装置区的发光器件和封装层结构之间设有形变层,所述形变层用于在制作所述封装层结构之前在第一预定条件下发生厚度和长度均增加的膨胀或伸长,以使所述封装层结构变薄,且使所述屏下装置区的封装层结构的厚度小于所述非屏下装置区的封装层结构的厚度,并在第二预定条件下复原;其中,所述第一预定条件和所述第二预定条件分别为光照条件,或所述第一预定条件和所述第二预定条件分别为磁场。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述形变层由膨胀材料制成;所述第一预定条件为第一预定波长的光照条件,所述第二预定条件为第二预定波长的光照条件。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述形变层为偶氮苯基聚合物形变层,所述第一预定波长的光照条件包括紫外光,所述第二预定波长的光照条件包括绿光。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述形变层具有厚度方向及与所述厚度方向垂直的长度方向;形变层由伸缩材料制成,用于在第一预定条件下沿长度方向伸长,并在第二预定条件下回缩。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述形变层光致伸缩形变层,所述第一预定条件为第三预定波长的光照条件,所述第二预定条件为第四预定波长的光照条件。
6.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述形变层为磁致伸缩形变层,所述第一预定条件为第一预定磁场,所述第二预定条件为第二预定磁场。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,封装层结构包括多个层叠的封装层,至少一个所述封装层在所述屏下装置区的厚度小于其在所述非屏下装置区的厚度。
8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一基板;
在所述基板上方形成发光器件;
将显示面板区分为屏下装置区和非屏下装置区;其中,所述屏下装置区对应下方包括安装硬件的区域;
在屏下装置区的发光器件上方形成形变层,并制作部分封装层结构,在制作所述部分封装层结构之前,通过第一预定条件使所述形变层发生厚度和长度均增加的膨胀或伸长,以使所述封装层结构变薄,且使所述屏下装置区的封装层结构的厚度小于所述非屏下装置区的封装层结构的厚度;
通过第二预定条件使所述形变层回复;其中,所述第一预定条件和所述第二预定条件分别为光照条件,或所述第一预定条件和所述第二预定条件分别为磁场;
继续制作所述封装层结构。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,制作部分封装层结构的步骤具体包括:
制作第一无机层,发生形变的形变层会阻断所述第一无机层的连续性;
继续制作所述封装层的步骤具体包括:
继续制作第一无机层;
制作第二有机层和第三无机层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至7中任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择