[发明专利]测试电路系统的方法及相关电路系统在审
申请号: | 202110494515.1 | 申请日: | 2021-05-07 |
公开(公告)号: | CN115308579A | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 卢彦儒 | 申请(专利权)人: | 瑞昱半导体股份有限公司 |
主分类号: | G01R31/3185 | 分类号: | G01R31/3185;G06F11/22 |
代理公司: | 北京市君合律师事务所 11517 | 代理人: | 王再芊;毕长生 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 测试 电路 系统 方法 相关 | ||
1.一种电路系统,包括:
一第一电路,用以执行至少一应用操作;
一第二电路,与所述第一电路具有实质相同的结构,用以执行所述至少一应用操作;及
一比较器;
其中:
在一测试模式中,所述第一电路及所述第二电路同步执行实质相同的一测试操作;在所述第一电路及所述第二电路同步执行所述测试操作的过程中,所述比较器用以比较所述第一电路内部产生的一第一中间信号及所述第二电路内部产生的与所述第一中间信号相对应的一第二中间信号;及
在所述比较器判断所述第一中间信号与所述第二中间信号不同时,所述第一电路及所述第二电路停止执行所述测试操作并执行一扫描转储操作以获取所述第一电路当下产生的多个第一传输信号及所述第二电路当下产生的多个第二传输信号。
2.根据权利要求1所述的电路系统,其特征在于,还包括:
一第三电路,与所述第一电路具有实质相同的结构,用以执行所述至少一应用操作;其中:
在所述测试模式中,所述第三电路与所述第一电路及所述第二电路同步执行实质相同的所述测试操作;
在所述第一电路、所述第二电路及所述第三电路同步执行所述测试操作时,所述比较器比较所述第一中间信号、所述第二中间信号及所述第三电路内部产生的与所述第一中间信号相对应的一第三中间信号;及
在所述比较器判断所述第一中间信号、所述第二中间信号及所述第三中间信号中有一个与另外两个不同时,所述第一电路、所述第二电路及所述第三电路停止执行所述测试操作。
3.根据权利要求2所述的电路系统,其特征在于,所述第一电路、所述第二电路及所述第三电路停止执行所述测试操作之后,所述第三电路执行所述扫描转储操作以获取所述第三电路当下产生的多个第三传输信号。
4.根据权利要求2所述的电路系统,其特征在于:
在所述测试模式中,当所述比较器判断所述第二中间信号与所述第一中间信号及所述第三中间信号不同且所述第一中间信号与所述第三中间信号相同时,所述第一电路及所述第二电路再次同步执行相同的所述测试操作,以及所述第三电路在延迟一预定时间后,与所述第一电路及所述第二电路执行实质相同的所述测试操作;
在所述第一电路及所述第二电路再次同步执行所述测试操作时,所述比较器比较所述第一中间信号及所述第二中间信号;及
在所述比较器判断所述第一中间信号及所述第二中间信号不同时,所述第一电路、所述第二电路及所述第三电路再次停止执行所述测试操作,及所述第三电路执行所述扫描转储操作以获取所述第三电路当下产生的多个第三传输信号。
5.根据权利要求4所述的电路系统,其特征在于,在所述第一电路、所述第二电路及所述第三电路再次停止执行所述测试操作之后,所述第一电路及所述第二电路执行所述扫描转储操作。
6.根据权利要求1所述的电路系统,其特征在于,还包括:
一第三电路,与所述第一电路具有实质相同的结构,用以执行所述至少一应用操作;其中:
在所述测试模式中,所述第三电路在延迟一预定时间后与所述第一电路及所述第二电路执行实质相同的所述测试操作;及
在所述第一中间信号及所述第二中间信号不同时,所述第三电路停止执行所述测试操作并执行所述扫描转储操作以获取所述第三电路当下产生的多个第三传输信号。
7.一种测试电路系统的方法,所述测试电路系统包括一第一电路及一第二电路,所述第一电路及所述第二电路具有相同的结构,所述方法包括:
使所述第一电路及所述第二电路同步执行相同的一测试操作;
在所述第一电路及所述第二电路同步执行所述测试操作的过程中,比较所述第一电路内部产生的一第一中间信号及所述第二电路内部产生的与所述第一中间信号相对应的一第二中间信号;
在所述第一中间信号与所述第二中间信号不同时,使所述第一电路及所述第二电路停止执行所述测试操作;及
在所述第一电路及所述第二电路停止执行所述测试操作之后,使所述第一电路及所述第二电路执行一扫描转储操作以获取所述第一电路当下产生的多个第一传输信号及所述第二电路当下产生的多个第二传输信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞昱半导体股份有限公司,未经瑞昱半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110494515.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种涂胶装置
- 下一篇:参考PDCCH的确定方法、装置、设备及可读存储介质