[发明专利]连接处理容器、基板处理系统以及基板处理方法

权利要求书

1.一种连接处理容器，其中，

该连接处理容器包括：

第1处理容器和第2处理容器，其以形成有间隙的方式在横向上并列设置，分别收纳基板，以进行真空处理；以及

连接部，其以跨过所述间隙地连接所述第1处理容器和所述第2处理容器的方式设置，能够相对于所述第1处理容器和第2处理容器中的至少一者沿所述横向滑动。

2.根据权利要求1所述的连接处理容器，其中，

该连接处理容器设有支承部，该支承部分别在所述第1处理容器和第2处理容器的与设有所述间隙的一侧相反的一侧支承所述第1处理容器和第2处理容器。

3.根据权利要求2所述的连接处理容器，其中，

所述支承部包括支承部主体，该支承部主体自下方连接于所述第1处理容器和第2处理容器各自的与设置所述间隙的一侧相反的一侧并进行支承，

不将所述支承部主体设在设有该间隙的一侧。

4.根据权利要求3所述的连接处理容器，其中，

所述支承部主体包括：

支承用连接部，其分别与所述第1处理容器和所述第2处理容器连接；

基部，其将所述各支承用连接部支承为能够前后左右滑动。

5.根据权利要求4所述的连接处理容器，其中，

所述支承用连接部包括第1纵轴，该第1纵轴设有第1凸缘，

所述基部包括孔，该孔以供所述第1纵轴插入并且在孔缘部支承所述第1凸缘的方式开口而成，

所述孔的直径以所述第1凸缘能够在所述孔缘部滑动的方式大于所述第1纵轴的直径。

6.根据权利要求5所述的连接处理容器，其中，

所述支承部包括多个支柱，该多个支柱包围包括所述第1处理容器和所述第2处理容器的处理容器组，

所述基部自所述多个支柱中的靠近所述第1处理容器的支柱朝向该第1处理容器的下方延伸，

所述基部自所述多个支柱中的靠近所述第2处理容器的支柱朝向该第2处理容器的下方延伸。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的连接处理容器，其中，

在所述第1处理容器的侧壁和所述第2处理容器的侧壁分别设有第1凹部，所述连接部嵌入于各第1凹部并且能够相对于该各第1凹部滑动。

8.根据权利要求7所述的连接处理容器，其中，

所述连接部为沿所述横向延伸的轴构件，

所述各第1凹部的周壁由包含固体润滑剂的轴承构成。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的连接处理容器，其中，

所述连接部连接所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面，

该连接处理容器包含底面滑动部，该底面滑动部能够相对于该第1处理容器的底面和第2处理容器的底面中的至少一个底面滑动。

10.根据权利要求9所述的连接处理容器，其中，

所述底面滑动部包括：

连接部主体，其分别与所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面连接；

贯通孔，其以在所述第1处理容器的底面和所述第2处理容器的底面中的一个底面开口的方式设于所述连接部主体；

第2纵轴，其以固定于所述一个底面并且插入于所述贯通孔的方式设置，具有小于该贯通孔的孔径的轴径；以及

第2凸缘，其设于所述第2纵轴，支承所述贯通孔的孔缘部，

所述连接部主体能够分别相对于所述一个底面和所述第2凸缘滑动。

11.根据权利要求1～6中任一项所述的连接处理容器，其中，

在所述第1处理容器和所述第2处理容器中的一者的侧壁设有第2凹部，

所述连接部为凸部，该凸部自所述第1处理容器和所述第2处理容器中的另一者的侧壁突出并嵌入于所述第2凹部并且能够相对于该第2凹部滑动。