[发明专利]一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法

权利要求书

1.一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，获取参考人脸的标记点以及眼袋区域的蒙版；

S2，当前帧进行人脸检测，并记录参考人脸的标记点；

S3，将当前帧的标记点和参考帧标记点进行回归，得到最优变换矩阵；

S4，将参考眼袋区域蒙版经过变换矩阵映射到当前帧，得到当前帧的眼袋区域蒙版；

S5，通过蒙版裁切出眼袋区域；

S6，对眼袋区域进行低频滤波；

S7，对蒙版进行高斯羽化处理；

S8，利用混合公式将低频图像与原图进行混合。

2.根据权利要求1所述的一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括以下子步骤：

S31，可选标记点为左右眼的内眼角和鼻沟正中心，总共标记点数量记为N；

S32，参考点的标记点记SrcMarks，当前帧人脸的标记记为DstMarks，SrcMarks和DstMarks分别为3*N矩阵，其中每一列为一个标记点的齐次坐标；变换矩阵记为M为3*3变换矩阵，则正向变换为DstMarks＝M*SrcMarks，其中，变换矩阵M可通过最小二乘法计算获得。

3.根据权利要求1所述的一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法，其特征在于，所述步骤S6中对眼袋区域进行低频滤波具体包括：使用滤波器核h对眼袋区域进行低频滤波，滤波过程如下式所示：

Ω为核尺寸；

其中，h为滤波器核，src为原始图像，skin为肤色模板，lowpass为滤波结果，m，n为当前像素点的坐标，i，j为滤波器核的坐标。

4.根据权利要求1所述的一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法，其特征在于，所述步骤S8中的混合公式如下式所示：

dst＝(1.0-mask)*src+mask*lowpass；

其中，dst为混合结果，mask为混合蒙版。

5.根据权利要求1所述的一种用于非编工程中人脸关键点的祛眼袋方法，其特征在于，所述步骤S4具体包括：参考点的标记点坐标记SrcMarks，当前帧人脸的标记点坐标为DstMarks，SrcMarks和DstMarks分别为3*N矩阵，其中每一列为一个标记点的齐次坐标；变换矩阵记为M为3*3变换矩阵，则正向变换为DStMarks＝M*SrcMarks，其中，变换矩阵M可通过最小二乘法进行求解。